Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения


Контакты

Подписка

Карта сайта





Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
Аннотации (05.2009) : Эллипсометрические исследования особенностей формирования пленок HfO2 на оптическом стекле

Эллипсометрические исследования особенностей формирования пленок HfO2 на оптическом стекле

© 2009 г.    В. А. Одарич, канд. физ.-мат. наук

 

Киевский университет им. Тараса Шевченко, Киев, Украина

 

E-mail: wladodarych@narod.ru

 

В спектральной области 314–632 нм проведены многоугловые эллипсометрические  исследования пленок диоксида гафния толщиной 30–300 нм, нанесенных на оптическое  стекло методом напыления материала электронным пучком. Обнаружено, что совокуп- ность эллипсометрических данных можно описать в модели двухслойной отражательной  системы. Найдены параметры системы. Внутренний слой является однородным, его  показатель преломления в пределах погрешности процедуры вычисления одинаковый  для всех исследованных образцов, а толщина растет в процессе напыления пленки.  Внешний слой имеет меньший показатель преломления, чем внутренний, а его толщина  для разных образцов изменяется в пределах 10–20 нм.

 

Ключевые слова: диоксид гафния, микроструктура пленки, однослойная модель,  двухслойная модель

 

УДК 53.082.53

Коды OCIS: 240.0310, 240.2130.

 

Поступила в редакцию 22.12.2008.

 

ЛИТЕРАТУРА 

1. Bogorno J.P., Lazarides B., Pelletier E. The automatic determination of optical constants of unho- mogeneous thin films // Appl. Opt. 1982. V. 21.  № 22. P. 4020–4029. 

2. Martin P.J., Netterfield R.P. Optimization of  deposition parameters in ion-assisted deposition  films // Thin Solid Films. 1991. V. 199. № 2.  P. 351–358. 

3. Edlou S.M., Smajkelwicz A., Al-Jumaily G.A. Optical properties and environmental stability of oxide  coatings, deposited by reactive sputtering // Appl.  Opt. 1993. V. 32. № 28. P. 5601–5605. 

4. Reicher D., Black P., Jungling K. Defects formation  in hafnium oxide thin films // Appl. Opt. 2000.  V. 39. № 10. P. 1589–1599. 

5. Al-Kuhaili M.F., Durrani S.M.A., Khavaja E.E.  Study of hafnium oxide thin films, produced by  the electron-beam deposition // J. Phys. D. 2004.  V. 37. № 8. P. 1254–1261. 

6. Al-Kuhaili M.F. Optical properties of hafnium  oxide thin films and their application in energy- efficient windows. // Opt. Mat. 2004. V. 27. № 3.  P. 383–387. 

7. Lehan J.P., Vao Y., Bovard B.G., Macleod M.A. Optical and microsructurial properties of HfO2  // Thin  Solid Films. 1991. V. 203. № 2. P. 227–250. 

8. Dewei Zhang, Shuhai Fan, Yuanan Zhao, Weidong  Gao, Jianda Shao, Ruiying Fan, Yingjian Wang,  Zhengxiu Fan. High laser-induced damage thresh- old HfO2  films prepared by ion-assisted electron  beam evaporation // Appl. Surface Sci. 2005.  V. 243. № 1. P. 232– 237.  

9. Modreanu M., Sancho-Parramon J., O′Connell D.,  Justice J., Durand O., Servet B. Solid phase crystallisation of HfO2  thin films // Mat. Sci. and Eng.  2005. V. B118. № 1. P. 127–131.

10. Conley J.F., Jr., Ono Y., Tweet D.J., Zhuang W.,  Solanki R. Atomic layer deposition of thin hafnium  oxide films using a carbon free precursor // J. Appl. Phys. 2003. V. 93. № 1. P. 712–718.

11. Одарич В.А., Панасюк В.Й., Стащук В.С. Спектроэллипсометрические исследования показателя преломления и толщины слоев HfO2  на  оптическом стекле // ЖПС. 1992. Т. 56. № 5–6.  C. 827–830.

12. Одарич В.А. Еліпсометричні дослідження шарів  HfO2 , SiO2  та Al2 O3  на кварцовому склі // Укр.  фіз. ж. 2000. Т. 45. № 1. C. 44–49.

13. Odarych W.A. Determination of the surface region  structure from ellipsometric data // Functional  Materials. 2000. V. 7. № 3. P. 475–479.

14. Одарич В.А. Измерение малых величин эллипсометрических параметров // Завод. лаборатория.  1970. Т. 43. № 9. С. 1093–1095.

15. ГОСТ 13659-68. Стекло оптическое бесцветное. Физ.-хим. свойства. М.: изд-во стандартов,  1968. 60 с.

16. Одарич В.А., Москаленко Т.П., Ципенюк Р.Є.  Визначення параметрів відбиваючої системи  методом еліпсометрії головного кута. Пряма  задача еліпсометрії // Вісник КУ. Фіз.-мат. н.  1991. Вип. 2. С. 73-78.

17. Вуйчик М.В., Євменова А.З., Одарич В.А., Сизов Ф.Ф. Еліпсометричні дослідження плівок  CdTe на CdHgTe // Фізика і хімія твердого тіла.  Physics and Chemistry of Solids State. 2007. Т. 8.  № 2. С. 296–300.

18. Harris M., Macleod H.A., Ogura S., Pelletier E.,  Vidal B. The relationship between optical inhomogeneity and film structure // Thin Solid Films.  1979. V. 57. № 1. P. 173–178.

19. Harris M., Bowden M., Macleod H.A. Refractive  index variations in dielectric films having columnar microstructure // Opt. Com. 1984. V. 51. № 1.  P. 29–32.

 

 

 

 

Полный текст >>>>

 

 

Ellipsometric studies of the features of the formation of HfO2 films on optical glass

W. A. Odarych

Multiangle ellipsometric studies of hafnium dioxide films 30-300nm thick, deposited on optical glass by electron-beam evaporation, have been carried out in the 314-632-nm spectral region. It is found that the collection of ellipsometric data can be described in a model of a two-layer reflective system. The parameters of the system are found. The inner layer is homogeneous, its refractive index, within the limits of error of the computational procedure, is identical for all the test samples, and the thickness increases during the deposition of the film. The outer layer has a lower refractive index than the inner one, and its thickness varies within the limits 10-20nm for the different samples.