Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения


Контакты

Подписка

Карта сайта





Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
Аннотации (05.2012) : ИССЛЕДОВАНИЕ СПОСОБОВ ДИСКРЕТИЗАЦИИ ИСТОЧНИКА ПРИ МОДЕЛИРОВАНИИ ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ

ИССЛЕДОВАНИЕ СПОСОБОВ ДИСКРЕТИЗАЦИИ ИСТОЧНИКА ПРИ МОДЕЛИРОВАНИИ ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ

© 2012 г.    Т. В. Иванова*, канд. техн. наук; Л. В. Зуева**

 

* Санкт­Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики, Санкт­Петербург

** ЗАО ОКБ “Карат”, Санкт­Петербург

 Е­mail: itv­aco@yandex.ru

В рамках модели Аббе при моделировании формирования фотолитографического изображения рассмотрены два способа дискретизации источника: по прямоугольной сетке с различным шагом дискретизации и при радиальном расположении точек на прямоугольной сетке с различным шагом по радиусу и по длине дуги между точками. Показано, что использование радиального распределения точек значительно ускоряет процесс вычисления, при этом точность моделирования определяется в основном шагом по радиусу.

Ключевые слова: фотолитография, модель Аббе, дискретизация источника.

Коды OCIS: 110.1758, 110.2990, 110.1650, 110.3960, 110.5220.

УДК 535.317

Поступила в редакцию 16.11.2011.

Литература

1.         Heil T., Graupner P., Garreis R., Egger R., Brotsack M., Finders J., Hansen S. Predictive modeling of advanced illumination pupils used as imaging enhancement for low­k1 applications // Proc. SPIE. 2004. V. 5377. P. 344–356.

2.         Flagello D.G., Geh B., Socha R., Liu P., Cao Y., Stas R., Natt O., Zimmermann J. Understanding illumination effects for control of optical proximity effects (OPE) // Proc. SPIE. V. 6924. P. 69241U­1–69241U­15.

3.         Zimmermann J., Gräupner P., Neumann J.T., Hellweg D., Jürgens D., Michael Patra, Hennerkes C., Maul M., Geh B., Engelen A., Noordman O., Mulder M., Park S. and Vocht J.D. Generation of arbitrary freeform source shapes using advanced illumination systems in high­NA immersion scanners // Proc. SPIE. 2010. V. 7640. P. 764005–764020.

4.         Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М.: Наука, 1973. 720 с.

5.         Hopkins H.H. Image formation with coherent and partially coherent light // Photographic Science and Engineering. 1977. V. 21. № 3.

 

 

Полный текст