Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения


Контакты

Подписка

Карта сайта





Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
ANALYSIS OF FABRICATION TOLERANCE BASED ON UNEVEN THICKNESS OF Su8-PHOTO-RESIST

 

© 2013 г.   Qing Tao; Fengguang Luo; Jinxing Zhang; Bingcheng Mo; Rui Zhong; Dandan Miao; Xiaoxing Pan; Qianliang Liang

 

Wuhan National Laboratory for Optoelectronics, School of Optoelectronic Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan, China

E-mail: fgluo@mail.hust.edu.cn, taoqing107@yahoo.com.cn

In this paper, we have analyzed the relationship between light propagation performance and uneven thickness of Su8-photo-resist based on EOPCB. Although spinning process is used to even the Su8-photo-resist, the obtained Su8-photo-resist is uneven, which directly affect cross-section shape of core layer. As long as we control h e [0,3 mm] and a, b e [0,2 mm], light propagation performance does not affected. But, it is easy to actually fabricate EOPCB.

Key words: Spinning process, EOPCB, Polymer optical waveguide

Codes OCIS: 250.3680, 5460.

UDK 621.397

Submitted 01.11.2012.

REFERENCES

1.              Schmieder K., Wolter K.J. Electro-optical printed circuit board (EOPCB) [C] // IEEE. 2000 Electronic Components and Technology Conference. Las Vegas. IEEE. 2000. P. 749-753.

2.              Hendrickx N., Steenberge G.Van, Bosman E., et al. Towards flexible routing schemes for polymer optical

interconnections on printed circuit boards // Proc. SPIE. 6899, 689904. 2008.

3.              Zhang Li-Guo, Chen Di, Yang Fan, et al. Research on SU-8 resist photolithography process [J] // Optics and Precision Engineering. 2002. № 10(3). Р. 266-269.

4.              Zheng Xiao-hu. Fabrication of micro-structure by using epoxy-based negative photoresist [J] // Opto-Electronic Engineering. 2006. V. 33. № 11. Р. 36-39.

5.              Svante Finnveden, Martin Fraggstedt. Waveguide finite elements for curved structures[J] // Journal of Sound and Vibration. 2008. № 312. P. 644-671.

6.              Kokou Dossou, Marie Fontaine. A high order isoparametric finite element method for the computation of waveguide modes [J] // Computer Methods in Applied Mechanics and Engineering. 2005. № 194. P. 837-858.

 

 

Полный текст

 



 
Назад 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 ... 14 Далее