© 2013 г. Э. С. Гуревич, канд. техн. наук; Я. И. Точицкий, канд. техн. наук; В. И. Цуран, главный специалист
Конструкторское бюро точного электронного машиностроения оптико-механического оборудования, г. Минск
E-mail: val@kbtem-omo.by
Статья посвящена работам Конструкторского бюро точного электронного машиностроения (КБТЭМ-OMO), которое уже более 50 лет обеспечивает микроэлектронику оптико-механическим оборудованием. Благодаря применению этого оборудования размеры элементов интегральных схем уменьшились в 30 раз (с 5 мкм до 180 нм), точность их расположения на всей площади кристалла увеличилась в 200 раз (с 2 мкм до 10 нм). Первые интегральные схемы с десятками транзисторов превратились в сложные функциональные системы с миллиардами транзисторов.
Ключевые слова: оптико-механическое оборудование для фотолитографии, микролитография.
Коды OCIS: 220.3630, 220.3740
УДК 621.3.04977.002.5
Поступила в редакцию 14.11.2012.
ЛИТЕРАТУРА
1. Lin Burn J. Optical Lithography: Here is why // SPIE Press. 2009. 469 p.
2. Валиев К.А. Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике. М.: Радио и связь, 1984. 256 с.
3. Точицкий Я.И. Оптические технологии микро- и наноэлектроники. Минск: РИВШ, 2010. 298 с.
4. Глазков И.М., Райхман Я.А. Генераторы изображений в производстве интегральных микросхем. Минск: Наука и техника, 1981. 144 с.
5. Гуревич Э.С., Псикова Л.П., Фокова Г.В. Проекционный объектив с увеличением -0,1 // АС № 1177788.
6. Гуревич Э.С., Цуран В.И., Тихончук Г.И., Богуш А.Л. Проекционный объектив с увеличением -1/5x // Патент Республики Беларусь № 5713. 2003.
7. Фокова Г.В, Гуревич Э.С. Осветитель для проекционной оптической печати // Патент Республики Беларусь № 7688.2006.
8. Гуревич Э.С., Тихончук Г.И., Матюшков В.Е., Богуш А.Л., Агейченко А.С., Цуран В.И. Проекционная система экспонирования с увеличением 1х // Патент Кореи № 0586062. 2006.
Полный текст
