Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 01.12.2015 допущен ВАК для публикации основных результатов диссертаций как издание, входящее в международные реферативные базы систем цитирования (Web Science, Scopus) (см. Vak.ed.gov.ru Перечень журналов МБД 16.03.2018г)

УВАЖАЕМЫЕ ПОДПИСЧИКИ НАШЕГО ЖУРНАЛА!
По техническим причинам «Оптический журнал» не попал в каталог агентства «Роспечать» на II полугодие 2018 г., что делает невозможной подписку на него на почте. Предлагаем оформить подписку на II полугодие 2018 в редакции журнала удобным Вам способом. Стоимость подписки на полугодие сохраняется (6600 руб.).
Связаться с нами можно по т. (812) 315-05-48, Е-mail: beditor@soi.spb.ru

Аннотации (05.2013) : ОПТИЧЕСКОЕ ПРИБОРОСТРОЕНИЕ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ

ОПТИЧЕСКОЕ ПРИБОРОСТРОЕНИЕ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ

 

© 2013 г.   Э. С. Гуревич, канд. техн. наук; Я. И. Точицкий, канд. техн. наук; В. И. Цуран, главный специалист

 

Конструкторское бюро точного электронного машиностроения оптико-механического оборудования, г. Минск

E-mail: val@kbtem-omo.by

Статья посвящена работам Конструкторского бюро точного электронного машиностроения (КБТЭМ-OMO), которое уже более 50 лет обеспечивает микроэлектронику оптико-механическим оборудованием. Благодаря применению этого оборудования размеры элементов интегральных схем уменьшились в 30 раз (с 5 мкм до 180 нм), точность их расположения на всей площади кристалла увеличилась в 200 раз (с 2 мкм до 10 нм). Первые интегральные схемы с десятками транзисторов превратились в сложные функциональные системы с миллиардами транзисторов.

Ключевые слова: оптико-механическое оборудование для фотолитографии, микролитография.

Коды OCIS: 220.3630, 220.3740

УДК 621.3.04977.002.5

Поступила в редакцию 14.11.2012.

ЛИТЕРАТУРА

1.              Lin Burn J. Optical Lithography: Here is why // SPIE Press. 2009. 469 p.

2.              Валиев К.А. Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике. М.: Радио и связь, 1984. 256 с.

3.              Точицкий Я.И. Оптические технологии микро- и наноэлектроники. Минск: РИВШ, 2010. 298 с.

4.              Глазков И.М., Райхман Я.А. Генераторы изображений в производстве интегральных микросхем. Минск: Наука и техника, 1981. 144 с.

5.              Гуревич Э.С., Псикова Л.П., Фокова Г.В. Проекционный объектив с увеличением -0,1 // АС № 1177788.

6.              Гуревич Э.С., Цуран В.И., Тихончук Г.И., Богуш А.Л. Проекционный объектив с увеличением -1/5x // Патент Республики Беларусь № 5713. 2003.

7.              Фокова Г.В, Гуревич Э.С. Осветитель для проекционной оптической печати // Патент Республики Беларусь № 7688.2006.

8.              Гуревич Э.С., Тихончук Г.И., Матюшков В.Е., Богуш А.Л., Агейченко А.С., Цуран В.И. Проекционная система экспонирования с увеличением 1х // Патент Кореи № 0586062. 2006.

 

Полный текст