Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 01.12.2015 допущен ВАК для публикации основных результатов диссертаций как издание, входящее в международные реферативные базы систем цитирования (Web Science, Scopus) (см. Vak.ed.gov.ru Перечень журналов МБД 16.03.2018г)

Аннотации (05.2019) : ОСОБЕННОСТИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА ПРИ ФОРМИРОВАНИИ ГЛУБОКОГО РЕЛЬЕФА НА ПРЕЦИЗИОННЫХ ДЕТАЛЯХ ПРИБОРОВ

ОСОБЕННОСТИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА ПРИ ФОРМИРОВАНИИ ГЛУБОКОГО РЕЛЬЕФА НА ПРЕЦИЗИОННЫХ ДЕТАЛЯХ ПРИБОРОВ

© 2019 г.       С. Б. Одиноков*, доктор техн. наук; Г. Р. Сагателян*, доктор техн. наук; М. С. Ковалев*, канд. техн. наук; К. Н. Бугорков**

*   Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет), Москва

** Филиал Центра эксплуатации элементов наземной инфраструктуры — Научно-исследовательский институт прикладной механики им. академика В.И. Кузнецова, Москва

E-mail: odinokov@bmstu.ru

УДК 681.2-2; 681.7.034; 621.794.4; 533.924; 621.7-4

Поступила в редакцию 25.02.2019

DOI:10.17586/1023-5086-2019-86-05-70-77

Рассмотрены особенности явлений, протекающих при выполнении операции плазмохимического травления оптического стекла на установке с индуктивно связанной плазмой в технологическом процессе изготовления глубокого рельефа на прецизионных деталях приборов.

Ключевые слова: кварцевое стекло, маятниковый акселерометр, поверхностный рельеф, плазмохимическое травление, механизм «диффузия — реакция», диссипативные структуры.

Коды OCIS: 160.2750, 220.4000, 240.6700

 

Литература

1.         Коновалов С.Ф., Пономарев Ю.А., Майоров Д.В. и др. Гибридные микроэлектромеханические гироскопы и акселерометры // Наука и образование: электронное научно-техническое издание. 2011. № 10. С. 1–23. http://technomag.edu.ru/doc/219257.html

2.         Зверев В.А., Кривопустова Е.В., Точилина Т.В. Оптические материалы. Часть 2. Уч. пособие для конструкторов оптических систем и приборов. СПб.: изд. СПб НИУ ИТМО, 2013. С. 23–27.

3.         Ветрова Е.В., Смирнов И.П., Козлов Д.В. и др. Особенности создания чувствительных элементов кремниевых и кварцевых маятниковых акселерометров // Ракетно-космическое приборостроение и информационные системы. 2017. Т. 4. Вып. 2. С. 95–102.

4.        U.S. Department of Health and Human Services. Hazardous Substances Data Bank (HSDB, online database). National Toxicology Information Program, National Library of Medicine. [Электронный ресурс]. Bethesda, MD. 2015. http://toxnet.nlm.nih.gov/newtoxnet/hsdb.htm

5.         Kaiser T.J., Allen M.G. A pendulous oscillating gyroscopic accelerometer fabricated using deep-reactive ion etching // J. Microelectromechanical Systems. 2003. V. 12. № 1, February. P. 21–28.

6.        Odinokov S.B., Sagatelyan G.R., Kovalyov M.S., et al. Creation of doe to form the calibration dot patterns inside the optical systems // Computer Optics. 2013. V. 37. № 3. P. 341–351.

7.         Kovalev M.S., Odinokov S.B., Zlokazov E.Yu., et al. A combination of computer generated Fresnel holograms and light guide substrate with diffractive optical elements for optical display and sighting system // Proc. SPIE 10818, Holography, Diffractive Optics, and Applications VIII, 1081823 (8 November 2018); doi: 10.1117/12.2501171; https://doi.org/10.1117/12.2501171

8.        Wang S., Zhou C., Ru H., et al. Optimized condition for etching fused-silica phase gratings with inductively coupled plasma technology // Appl. Opt. 2005. V. 44. № 21. P. 4429–4434.

9.        Казанский Н.Л., Колпаков В.А. Формирование оптического микрорельефа во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда. М.: Радио и связь, 2009. 220 с.

10.       Pedersen M., Huff M. Plasma etching of deep high-aspect ratio feauters into fused silica // J. Microelectronical Systems. 2017. V. 26. № 2. P. 448–455.

11.       Бугорков К.Н., Сагателян Г.Р. Плазмохимическое травление стекла с применением высокочастотной диодной системы // Естественные и технические науки. 2017. № 8. С. 87–91.

12.       Бугорков К.Н., Сагателян Г.Р. Возможности плазмохимического травления стекла по диодной схеме // Машиностроение и компьютерные технологии. 2017. № 11. С. 44–63.

13.       Федотов А., Агабеков Ю., Мачикин В. Многофункциональные нанокомпозитные покрытия // Наноиндустрия. 2008. № 1. С. 24–26.

14.       Сагателян Г.Р., Шишлов А.В., Шашурин В.Д. Нанесение функциональных металлических тонкопленочных покрытий на ответственные детали гироскопических приборов космического назначения // Нанотехнологии: разработка, применение — XXI век. 2016. Т. 8. № 3. С. 32–38.

15.       Liberman M.A., Lichtenberg A.J. Principles of plasma discharges and materials processing. Hoboken, New Jersey: John Wiley & Sons, Inc., 2005. P. 285–325.

16.       Галперин В.А., Данилкин Е.В., Мочалов А.И. Процессы плазменного травления в микро- и нанотехнологиях [Электронный ресурс]: уч. пособие / под ред. Тимошенкова С.П. М.: БИНОМ. Лаборатория знаний, 2013. С. 39–42.

17.       Гофман У., Рюдорф В., Хаас А. и др. Руководство по неорганическому синтезу: в 6-ти томах. Т. 3. Пер. с. нем. / Под ред. Брауэра Г. М.: Мир, 1985. 392 с.

18.       Чукин Г.Д. Химия поверхности и строение дисперсного кремнезема. М.: ООО «Принта», 2008. 172 с.

19.       Курушина С.Е. Анализ поведения пространственных диссипативных структур в системах реакция – диффузия в поле внешних флуктуаций в окрестности точки бифуркации // Компьютерная оптика. 2010. Т. 34. № 3. С. 340–349.

20.      Томилин В.И., Томилина Н.П., Чернов В.К. и др. Физико-химические основы технологии электронных средств: уч. пособие по лабораторному практикуму. Красноярск: изд. СФУ, 2007. С. 7–26.

21.       Lehtinen N.G. Error functions [Электронный рессурс]. 2010. http://nlpc.stanford.edu/nleht/Science/reference/errorfun.pdf

22.      Chang S.H., Cosman P.C., Milstein L.B. Chernoff-tipe bounds for the Gaussian error function // IEEE Trans. Commun. 2011. V. 59. № 11. P. 2939–2944.

23.      Привалов И.И. Ряды Фурье. Учебник для вузов. М.: изд. МГУ им. М.В. Ломоносова, 2017. 164 с.

24.      Ризниченко Г.Ю. Лекции по математическим моделям в биологии. Серия Математическая биология, биофизика. М. – Ижевск: изд. «РХД», 2011. 560 с.

25.      Ванаг В.К. Диссипативные структуры в реакционно-диффузионных системах. М. – Ижевск: изд. Института компьютерных исследований, 2008. 300 с.

26.      Одиноков С., Сагателян Г., Бугорков К. и др. Закономерности и особенности двухстороннего плазмохимического травления деталей из оптического стекла // Наноиндустрия. 2018. № 1. С 50–62.

27.       Варданян Э.Л., Ягафаров И.И., Будилов В.В. и др. Математическое моделирование процесса нанесения упрочняющих покрытий на основе интерметаллида системы Ti-Al // Упрочняющие технологии и покрытия. 2014. № 6. С. 7–10.

28.      Вакуумная опытно-промышленная установка нанесения «ионных» покрытий UNICOAT-600. Паспорт. Дзержинск: НПФ «Элан-Практик», 2006. 8 с. http://www.elanpraktik.ru/wp-content/uploads/2017/10/UniCoat-600-pasport.pdf

29.      Taylor Hobson Ltd., 2018. Form Talysurf® CNC Series — 06/2018. https://www.taylor-hobson.com/-/media/ametektaylorhobson/files/product downloads/form talysurf cnc series/fts-cnc-series_lowres_en.pdf

30.      Гук Е.Г., Каманин А.В., Шмидт Н.М. и др. Диффузия легирующих примесей из полимерных диффузантов и применение этого метода в технологии полупроводниковых приборов. Обзор // Физика и техника полупроводников. 1999. Т. 33. Вып. 3. С. 257–269.

31.       Тихонов А.Н., Самарский А.А. Уравнения математической физики: уч. пособие. М.: изд. МГУ, 1999. С. 228–242.

 

 

Полный текст