ПО “Уральский оптико-механический завод” им. Э.С. Яламова”, г. Екатеринбург

Е-mail: krudu@planet-a.ru

Рассмотрены результаты исследования влияния углов падения лучей актиничного излучения на поверхность фотошаблона в операции контактного экспонирования технологического процесса обратной фотолитографии на угловые погрешности круговых оптических шкал (лимбов).

Ключевые слова: круговая оптическая шкала, лимб, угловая погрешность, обратная фотолитография.

Коды OCIS: 110.5220.

УДК 53.087.92 + 681.7.064

Поступила в редакцию 15.12.2009.

ЛИТЕРАТУРА

1. Кручинин Д.Ю., Анисимова О.В., Тырышкина А.С. Исследование  угловых погрешностей  лимбов, изготовленных методом обратной фотолитографии // Оптический журнал. 2009. Т. 76. № 6. С. 70–74.

2. Кручинин Д.Ю. Способ изготовления оптических шкал обратной фотолитографией // Патент России № 2370799. 2009.

3. Абрамов Ю.Ф., Кирьянов В.П., Кирьянов А.В., Кокарев С.А., Кручинин Д.Ю., Чугуй Ю.В., Яковлев О.Б. Модернизация оптического делительного производства Уральского оптико-механического завода на основе современных лазерно-компьютерных и фотолитографических технологий // Оптический журнал. 2006. Т. 73. № 8. С. 61–65.

4. Bartik S.A.,Frizin S.E., Kiryanov V.P., Kiryanоv A.V., Kokarev S.A., Kruchinin D.Y., Nikitin V.G., Yakovlev O.B. Development of a technique for the determination of metrological parameters of technological system CLWS-300/С for synthesis of high precision angular measuring structures // 10 th IMEKO TC7 International Symposium. Saint-Petersburg, 2004. P. 316–320.

Полный текст