Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
Аннотации (06.2011) : ПОИСК ПЕРВОНАЧАЛЬНОГО ПРИБЛИЖЕНИЯ ПРИ РЕШЕНИИ ОБРАТНЫХ ЗАДАЧ В ЭЛЛИПСОМЕТРИИ И СПЕКТРОФОТОМЕТРИИ

ПОИСК ПЕРВОНАЧАЛЬНОГО ПРИБЛИЖЕНИЯ ПРИ РЕШЕНИИ ОБРАТНЫХ ЗАДАЧ В ЭЛЛИПСОМЕТРИИ И СПЕКТРОФОТОМЕТРИИ

© 2011 г. Б. М. Аюпов*, доктор техн. наук; И. А. Зарубин**; В. А. Лабусов**, доктор техн. наук; В. С. Суляева*; В. Р. Шаяпов*

 

** Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, г. Новосибирск

** Институт автометрии и электрометрии СО РАН, г. Новосибирск

E-mail: ayupov@niic.nsc.ru

 

Рассмотрен подход к поиску первоначальных условий при решении обратных оптических задач по определению показателей преломления и толщины диэлектрических пленок на подложках. Предлагается использование спектров отражения, полученных при разных углах падения света на образец, из которых по местоположению экстремумов интенсивности вычисляются показатели преломления и толщина пленок. В монохроматической нулевой эллипсометрии измерение параметров по-ляризации света при разных углах падения позволяет для каждого угла определить показатель преломления и эллипсометрическую толщину. Первоначальное приближение толщины для решения обратной задачи в эллипсометрии на основе данных для всех использованных углов падения света на образец получается из оптической толщины пленки, определенной по спектрам отражения при малых углах падения.

 

Ключевые слова: обратные задачи, первоначальное приближение, тонкие пленки, спектрофотометрия, эллипсометрия.

 

Коды OCIS: 240.0310, 260.2130, 240.6490, 310.6860.

УДК 535-45; 535-92; 535.512

 

Поступила в редакцию 15.10.2010.

 

ЛИТЕРАТУРА

2. Аюпов Б.М. Выбор моделей для исследования систем диэлектрическая пленка-подложка эллипсометриче-

ским и спектрофотометрическим методами // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные

исследования. 2000. № 4. С. 59–63.

3. Аюпов Б.М., Девятова С.Ф.,. Ерков В.Г., Семенова Л.А. Профили показателей преломления некоторых тер-

мических и CVD оксидных пленок на кремнии // Микроэлектроника. 2008. Т. 37. № 3. С. 163–168.

4. Kosinova M.L., Fainer N.I., Rumyantsev Yu.M., Maximovski E.A., Kuznetsov F.A., Terauchi M., Shibata K., Sa-

toh F. Growth of homogeneous and gradient BCxNy films by PECVD using trimethylamino borane complex //

The Electrochemical Society Proc. V. 2003-08, Chemical Vapor Deposition XVI (CVD-XVI) and EuroCVD 14,

2003. P. 708–715.

5. Лабусов В.А., Путьмаков А.Н., Саушкин М.С., Зарубин И.А., Селюнин Д.О. Многоканальный спектрометр

“Колибри-2” и его использование для одновременного определения щелочных и щелочноземельных ме-

таллов методом пламенной фотометрии // Зав. лаб. Диагностика материалов. Спец. вып. 2007. Т. 73.

С. 35–39.

6. Аюпов Б.М., Лукьянова И.Г. Спектрофотометрическое определение толщин пленок поликристаллического

кремния // Электрон. техн. Сер. Материалы. 1981. В. 12(161). С. 59–61.

7. Аюпов Б.М., Козлова Н.А. Обнаружение нарушенного слоя на поверхности кремния посредством метода

монохроматической нулевой эллипсометрии // Оптический журнал. 2006. Т. 73. № 3. С. 72–76.

8. Reisman F. Optical thickness measurement of thin transparent films on silicon // J. Appl. Phys. 1965. V. 36.

№ 12. P. 3804–3807.

9. Шелпакова И.Р., Юделевич И.Г., Аюпов Б.М. Послойный анализ материалов электронной техники. Ново-

сибирск: Наука, 1984. 178 с.

10. Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М.: Наука, 1973. 855 с.

11. Holmes D.A. On the calculation of thin film refractive index and thickness by ellipsometry // Appl. Opt. 1967.

V. 6. № 1. P. 168–169.

12. Yataka Yoriume. Method for numerical inversion of the ellipsometric equation for transparent films // J. Opt.

Soc. Am. 1983. V. 73. № 7. P. 888–891.

13. Ржанов А.В., Свиташев К.К., Семененко А.И., Семененко Л.В., Соколов В.К. Основы эллипсометрии. Ново-

сибирск: Наука, 1979. 424 с.

14. Ayupov Boris, Zherikova Kseniya, Gelfond Nikolai, Morozova Natalia. Optical properties of MOCVD HfO2

films // Phys. Status Solidi A. 2009. V. 206. № 2. P. 281–286.

15. Аюпов Б.М. Модификация гониометра ГС-5 // ПТЭ. 1993. № 5. С. 185–187.

 

 

Полный текст