Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
Аннотация (07.2009) : ХАРАКТЕРИЗАЦИЯ ПРОФИЛОГРАММ КУСОЧНО-НЕПРЕРЫВНОГО ДИФРАКЦИОННОГО МИКРОРЕЛЬЕФА

ХАРАКТЕРИЗАЦИЯ ПРОФИЛОГРАММ КУСОЧНО-НЕПРЕРЫВНОГО ДИФРАКЦИОННОГО МИКРОРЕЛЬЕФА

 

© 2009 г. В. П. Корольков, канд. техн. наук; С. В. Остапенко

 

 

Институт автоматики и электрометрии СО РАН, Новосибирск

 

Е-mail: victork@iae.nsk.su

 

Вопросы профилометрического анализа кусочно-непрерывного микрорельефа высокоэффективных дифракционных элементов практически не рассматривались в литературе, несмотря на то что рынок дифракционной оптики существенно вырос в последнее время, и высокоэффективные дифракционные элементы перешли из разряда экзотики в обычную практику оптического приборостроения. В данной работе авторы рассматривают несколько методик оценки микрорельефа, которые позволяют вычислить “аппроксимированную глубину”, практически не зависящую от типа используемого профилометра. Предложенные методики основаны на полиномиальной аппроксимации профиля дифракционной зоны с минимизацией влияния ненадежных данных вблизи ее границ.

 

Ключевые слова: профилограмма, микрорельеф, профиль дифракционной зоны, дифракционные оптические элементы.

 

Коды OCIS: 120.6650 120.2830 120.3930 120.4290 120.4630

УДК 53.088.23

 

Поступила в редакцию 30.10.2008

 

ЛИТЕРАТУРА

1. Gale M.T., Lang G.K., Raynor J.M., Schu..tz H., ProngueD. Fabrication of kinoform structures for optical computing // Appl. Opt. 1992. V. 31. № 3. P. 5712–5715.

2. Korolkov V.P., Nasyrov R.K., Shimansky R.V. Zoneboundary

optimization for direct laser writing of continuous-relief diffractive optical elements // Appl. Opt. 2006. V. 45. № 1. P. 53–62.

3. Korolkov V.P., Malyshev A.I., Nikitin V.G., Cherkashin V.V., Poleshchuk A.G., Kharissov A.A. Application of gray-scale LDW-glass masks for fabrication of high-efficiency DOEs // Proc. SPIE. 1999. V. 3633. P. 129–138.

4. Kley E.B. Continuous profile writing by electron and optical lithography // Microelectronic Engineering. 1997. V. 34. № 3. P. 261–298.

5. Blough C.G., Rossi M., Mack S.K., Michaels R.L. Single-point diamond turning and replication of visible and near-infrared diffractive optical elements // Appl. Opt. 1997. V. 36. № 20. P. 4648– 4654.

6. Content D.A. Diffraction grating groove analysis used to predict efficiency and scatter performance // Conference “Gradient Index, Miniature, and Diffractive Optical Systems”. Ed. by Kathman Alan D. / Proc. SPIE. 1999. V. 3778. P. 19–30.

7. Fujita T., Nishihara N., Koyama J. Blazed gratings and Fresnel lenses fabricated by electron-beam lithography //Opt. Lett. 1982. V. 7. № 12. P. 578–580.

8. Golub M.A. Optical performance evaluation from microrelief profile scans of diffractive optical elements // OSA Conference Technical Digest “Diffractive Optics and Micro-Optics”. Quebec City, Canada, 2000. P. 110–112.

 

Полный текст>>>>>

 

 

 

Characterization of profilograms of piecewise-continuous diffraction microrelief

V. P. Korol'kov and S. V. Ostapenko

Questions of the profilometric analysis of the piecewise-continuous microrelief of high-efficiency diffraction elements have been virtually ignored in the literature, even though the market for diffraction optics has substantially increased in recent years, and high-efficiency diffraction elements have gone from the realm of the exotic to ordinary practice of optical instrumentation. In this paper, the authors consider several techniques for evaluating microrelief that make it possible to compute the “approximated depth,” almost regardless of the type of profilometer being used. The proposed techniques are based on a polynomial approximation of the diffraction-zone profile with minimization of the influence of the unreliable data close to its boundaries.