© 2010 г. Ю. С. Емельяненко*, канд. физ.-мат. наук; В. В. Колос**; М. И. Маркевич***, доктор физ.-мат. наук; В. Ф. Стельмах****, канд. физ.-мат. наук; А. М. Чапланов***, доктор физ.-мат. наук
**** Институт физики НАН Республики Беларусь, Минск, Белоруссия
**** НПО “Интеграл”, Минск, Белоруссия
**** Физико-технический институт НАН Республики Беларусь, Минск, Белоруссия
**** Белорусский государственный университет, Минск, Белоруссия
**** Е-mail: Emelyanenko@inel.bas-net.by
Проведено исследование оптических свойств системы Au/TiSi2(C49)/Sin-типа/Si, сформированной методом быстрой термической обработки. Показано, что максимум спектральной чувствительности находится в области 750 нм. Максимальная чувствительность достигает 35 мА/Вт в диапазоне длин волн 750–800 нм. Сделан вывод о том, что на основе данной структуры, полностью совместимой с известной технологией, применяемой для изготовления полупроводниковых приборов на кремнии (кремниевая технология), возможно создание фотоприемника, чувствительного в диапазоне 350–1050 нм.
Ключевые слова: дисилицид титана, быстрая термическая обработка, оптические свойства, фотоприемник, кремниевая технология.
Коды OCIS: 040.5160
УДК 669.2
Поступила в редакцию 10.11.2009
ЛИТЕРАТУРА
1. Пилипенко В.А. Быстрые термообработки в технологии СБИС. Минск: изд-во Центр БГУ, 2004. 531 с.
2. Борисенко В.Е. Твердофазные процессы в полупроводниках при импульсном нагреве. Минск: Наука и техника, 1992. 247 с.
3. Мьюрарка С.П. Силициды для БИС. М.: Мир, 1986. 175 с.
4. Пилипенко В.А., Горушко В.А., Пономарь В.Н., Пилипенко И.В. Электрофизические и механические свойства дисилицида титана, полученного с применением быстрой термообработки // Вестник БГУ. 2001. Сер. 1. № 2. С. 43–45.
5. Niess J., Paul S., Buschbaum S. Mainstream rapid thermal processing for source-drain engineering from first applications to latest results // Mat. Sci. and Eng. B. V. 114–115. P. 141–150.
6. Бурова С.В., Злобин В.П., Иевлев В.М. Формирование силицидов титана методом импульсного фотонного отжига // Электронная промышленность. 1988. № 2. С. 34–37.
7. Иевлев В.М., Кущев С.Б., Санин В.Н. Твердофазный синтез силицидов при импульсной фотонной обработке гетеросистем Si–Me (Me: Pt, Pd, Ni, Mo, Ti) // ФХОМ. 2002. № 1. С. 27–31.
8. Емельяненко Ю.С., Колос В.В., Маркевич М.И., Стельмах В.Ф., Чапланов А.М. Влияние импульсной фотонной обработки на свойства системы TiN/Ti/Si // Электроника-ИНФО. 2008. № 9. С. 55–57.
Полный текст
<!-- .t2op1 { width: 100%; height: 5px; overflow: hidden;} .t2op1 div { height: 20%; overflow: hidden;} .t2op1 div div { height: 50%;} -->