Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения


Контакты

Подписка

Карта сайта





Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
Аннотации (09.2013) : НОВЫЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ИЛИ РЕЛЬЕФА НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ РЕЗИСТА

НОВЫЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ИЛИ РЕЛЬЕФА НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ РЕЗИСТА

 

© 2013 г.    М. А. Брук*, доктор хим. наук; Е. Н. Жихарев**; В. А. Кальнов**, канд. техн. наук; А. В. Спирин*; Д. Р. Стрельцов*, канд. физ.-мат. наук

 

* Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л. Я. Карпова, Москва ** Физико-технологический институт РАН, Москва

E-mail: bruk@cc.nifhi.ac.ru

 

Предложен новый "сухой" метод формирования рисунка маски или любого другого рельефа в некоторых позитивных резистах путем прямого травления резиста непосредственно в процессе экспонирования электронным лучом. Метод весьма эффективен при формировании пространственных 3D структур и, повидимому, может быть успешно использован в оптоэлектронике.

Ключевые слова: оптоэлектроника, электронная литография, сухое травление резиста, 3D структуры.

Коды OCIS: 110.0110, 250.0250.

УДК 621.38

 

Поступила в редакцию 29.03.2013.

ЛИТЕРАТУРА

1.           Брук М.А., Кондратьева М.В., Баранов А.А., Пебалк К.В., Сергеев А.М., Козлова Н.В. Радиационная деполимеризация полиметилметакрилата, адсорбированного на силохроме // Высокомолек. соед. 1999. Т. 41А. № 2. С. 256-262.

2.          Murali R. Metrology for Grayscale Lithography // AIP Conf. Proc. 2007. V. 931. P. 419-422.

3.          Schleunitz A., Schift H. Fabrication of 3-D Pattern with Vertical and Sloped Sidewalls by Grayscale Electron-Beam Lithography and Thermal Annealing // Microelectron. Eng. 2011. V. 88. № 8. P. 2736-2739.

 

Полный текст