Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 01.12.2015 допущен ВАК для публикации основных результатов диссертаций как издание, входящее в международные реферативные базы систем цитирования (Web Science, Scopus) (см. Vak.ed.gov.ru Перечень журналов МБД 16.03.2018г)

Аннотации (10.2019) : ВЛИЯНИЕ КОЛИЧЕСТВА АРГОНА В ИОННОМ ПУЧКЕ КИСЛОРОДА НА ОПТИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПЛЁНОК ДИОКСИДА ТИТАНА, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ИСПАРЕНИЯ С ИОННЫМ АССИСТИРОВАНИЕМ

ВЛИЯНИЕ КОЛИЧЕСТВА АРГОНА В ИОННОМ ПУЧКЕ КИСЛОРОДА НА ОПТИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПЛЁНОК ДИОКСИДА ТИТАНА, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ИСПАРЕНИЯ С ИОННЫМ АССИСТИРОВАНИЕМ

УДК 544.023.2

 

© 2019 г.  А. А. Козырев*, **, канд. техн. наук; А. Д. Лебедев**, ***, магистрант

* Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», Москва

** ООО «НПП «Инжект»,  Саратов

*** Саратовский национальный исследовательский государственный университет имени Н.Г. Чернышевскогo, Саратов

E-mail: equilibriummm@yandex.ru

Поступила в редакцию 10.06.2019

DOI:10.17586/1023-5086-2019-86-10-65-70

Проведено исследование влияния количества аргона в смеси с кислородом в ионном пучке на оптические характеристики диоксида титана, полученного методом электронно­лучевого испарения в вакууме с ионным ассистированием. Показано, что добавление инертного газа на уровне 20–25% приводит к росту показателя преломления полученного покрытия TiO2, а также к уменьшению чувствительности спектральной характеристики покрытия к воздействию атмосферы в результате уменьшения пористости плёнки. Определено максимальное количество аргона в смеси, составившее 26%, при котором плёнка диоксида титана имеет коэффициент экстинкции не превышающий k = 0,0001.

Ключевые слова: диоксид титана, ионное ассистирование, аргон.

Коды OCIS: 310.1860.

 

Литература

  1. Fan B., Suzuki M., Tang K. Ion­assisted deposition of TiO2/SiO2 multilayers for mass production // Appl Opt. 2006. V. 45. № 7. P. 1461–1464.
  2. Wang Y., Yang Y., Qin L. et al. 808 nm high­power high­efficiency GaAsP/GaInP laser bars // Optoelectronic Materials and Devices III / Proc. of SPIE. 2008. V. 7135. P. 71350N.
  3. Kinoshita S., Sakaguchi T., Odagawa T. et al. GaAlAs/GaAs surface emitting laser with high reflective TiO2/SiO2 multilayer Bragg reflector // Jpn. J. Appl. Phys. 1987. V. 26. № 3. P. 410–415.
  4. Okimura K., Shibata A., Maeda N. et al. Preparation of rutile TiO2 films by RF magnetron sputtering // Japanese Journal of Applied Physics. 1995. V. 34. P. 4950–4955.
  5. Герасименко Ю.В., Логачёва В.А., Ховив А.М. Cинтез и свойства тонких пленок диоксида титана // Конденсированные среды и межфазные границы. 2010. Т. 12. № 2. С. 113–118.
  6. Cevro M., Carter M. Ion beam sputtering and dual ion beam sputtering of titanium oxide films // Journal of Physics D: Applied Physics. 1995. V. 28. № 9. P. 1962–1976.
  7. Mikhelashvili V., Eisenstein G. Optical and electrical characterization of the electron beam gun evaporated TiO2 film // Microelectron. Reliab. 2001. V. 41. P. 1057–1061.
  8. Mergel D., Buschendorf D., Eggert S. et al. Density and refractive index of TiO2 films prepared by reactive evaporation // Thin Solid Films. 2000. V. 371. P. 218–224.
  9. Woo S.H., Hwangbo C.K. Effects of annealing on the optical, structural, and chemical properties of TiO2 and MgF2 thin films prepared by plasma ion­assisted deposition // Applied optics. 2006. V. 45. P. 1447–1455.

10.  Козырев A.A., Лебедев А.Д. Оптические характеристики плёнок TiO2 полученных методом электронно­лучевого испарения в вакууме с ионным ассистированием // Сборник тезисов докладов КОИПСС. 2017. C. 72–73.

11.  Лунин Л.С., Лунина М.Л., Кравцов А.А. и др. Синтез и исследование свойств тонких пленок TiO2, легированных наночастицами серебра, для просветляющих покрытий и прозрачных контактов фотопреобразователей // Физика и техника полупроводников. 2016. Т. 50. № 9. С. 1253–1257.

12.  Fatimah Is. Preparation of TiO2­SiO2 via sol­gel method: Effect of Silica precursor on catalytic and photocatalytic properties // IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. 2016. V. 172. P. 1–7.

13.  Pulker H.K., Paesold G., Ritter E. Refractive indices of TiO2 films produced by reactive evaporation of various titanium–oxygen phases // Appl. Opt. 1976. № 15. P. 2986–2991.

14.  Gilo M., Croitoru N. Properties of TiO2 films prepared by ion­assisted deposition using a gridless end­Hall ion source // Thin Solid Films. 1996. V. 283. № 1–2. P. 84–89.

15.  Zhao C., Child D., Gibson D. et al. TiO2 films prepared using plasma ion assisted deposition for photocatalytic application // Materials Research Bulletin. 2014. V. 60. P. 890–894

16.  Hwangbo C.K., Cho H.J. Ion assisted deposition of TiO2 thin films by Kaufman and gridless ion sources // The Review of laser engineering. 1996. V. 24. № 1. P. 103–109.

17.  Khashan M., Nassif A. Accurate measurement of the refractive indices of solids and liquids by the double­layer interferometer // Appl. Opt. 2000. V. 39. P. 5991–5997.

18.  Amotchkina T., Trubetskov M., Tikhonravov A. et al. Reliable optical characterization of e­beam evaporated TiO2 films deposited at different substrate temperatures // Appl. Opt. 2014. V. 53. P. 8–15.

19.  Stenzel O., Ohlídal M. Optical characterization of thin solid films. Cham: Springer International Publishing, 2018. 462 p.

  1. Stenzel O. Optical coatings material aspects in theory and practice. Berlin: Springer­Verlag Heidelberg, 2014. 378 p.

 

 

Полный текст