© 2012 г. Г. Н. Вишняков, доктор техн. наук; И. Ю. Цельмина
Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений, Москва
Е-mail: tselmina@mail.ru
В работе приведены результаты исследования качества оптической поверхно-
сти деталей, обработанных с применением полиуретанов трех видов на этапе поли-
рования методом многодетальной обработки. Проведено сравнение с результатами
обработки оптических поверхностей деталей по стандартной технологии (на смо-
ле). Показана эффективность данного типа полировальников для достижения наи-
меньшей шероховатости, минимального отклонения формы профиля поверхности и
местной погрешности формы поверхности. Применение полиуретанов позволяет по-
лучать детали, при обработке на блоке, с малым разбросом по параметрам PV и RMS
и увеличивает процент выхода годных изделий по оптической чистоте.
Ключевые слова: полиуретаны, оптическая поверхность, шероховатость, оп-
тическая чистота.
Коды OCIS: 220.5450, 240.6700, 220.4610.
УДК 53.082.54
Поступила в редакцию 28.02.2012.
ЛИТЕРАТУРА
1. Tesar A.A., Fuchs B.A. Removal Rates of Fused Silica with corium Oxide/Pitch Polishing. Proc. SPIE. 1991.
V. 1531. Р. 80–90.
2. Cumbo M.J. Chemo-mechanical Interactions in Optical Poling // Ph.D. Dissertation. Univ. of Rochester/
Rochester. NY, 1993.
3. DeGroote J.E., Jacobs S.D., Gregg L.L., Marino A.E. Quantitative characterization of optical polishing pitch //
Proc. SPIE. 2001. V. 4451. P. 209–221.
4. Berggren R.R., Schmell R.A. Pad polishing for rapid production of large flats // Proc. SPIE 1997. V. 3134.
P. 252–257.
5. Yaguo Li, Jing Hou, Qiau Xu, Jian Wang, Wei Yang, Yindio Guo, The Characteristics of Optics polished with
a polyurethane pad // OPTICS EXPRESS 10285. 2008. V. 16. № 14. Р. 7–16.
6. Cook L.M. Chemical process in glass polishing // J. Non-Crystaline Solids. 1990. V. 120. P. 152–171.
7. Lu H., Fookes B., Obeng Y., Machinski S., Richardson K.A. Quantitative analysis of physical and chemical
changes in CMP polyurethane pad surfaces // Materials Characterizaton. 2002. V. 49. P. 35–44.
8. Kamimura T., Akamatsu S., Yamamoto M., Yamato I., Shiba H., Motokoshi S., Sakamoto T., Okamoto T.,
Yoshida K. Enhancement of Surface-damage Resistance by Removihg a Subsurface Damage in Fused Silica //
Proc. SPIE. 2004. V. 5273. P. 244–249.
9. Ramanathan L.S., Sivam S., Mishrarа M.K. “Poliurethane” // In Polymer Data Handbook. J.E. Mark, ed.
Oxford Univ. Press, 1999.
Полный текст
