Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 01.12.2015 допущен ВАК для публикации основных результатов диссертаций как издание, входящее в международные реферативные базы систем цитирования (Web Science, Scopus) (см. Vak.ed.gov.ru Перечень журналов МБД 16.03.2018г)

УВАЖАЕМЫЕ ПОДПИСЧИКИ НАШЕГО ЖУРНАЛА!
По техническим причинам «Оптический журнал» не попал в каталог агентства «Роспечать» на II полугодие 2018 г., что делает невозможной подписку на него на почте. Предлагаем оформить подписку на II полугодие 2018 в редакции журнала удобным Вам способом. Стоимость подписки на полугодие сохраняется (6600 руб.).
На первое полугодие 2019 и далее подписка будет проводится в ранее существовавшем порядке через "Роспечать", "УралПресс" и другие агенства печати.

Связаться с нами можно по т. (812) 315-05-48, Е-mail: beditor@soi.spb.ru

Аннотации (01.2016) : DETERMINATION OF OPTICAL PROPERTIES IN NANOSTRUCTURED TIO2 THIN FILM FABRICATED BY ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION

DETERMINATION OF OPTICAL PROPERTIES IN NANOSTRUCTURED TIO2 THIN FILM FABRICATED BY ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION

 

© 2016   Akbar Eshaghi*; Abbas Ail Aghaei

Faculty of Materials Science and Engineering, Maleke Ashtar University of Technology, Shahinshahr, Esfahan, Iran

E-mail: Eshaghi.akbar@gmail.com

In this research, nanostructured TiO2 thin film was deposited on glass substrate by electron beam physical vapor deposition method. X-ray diffraction, Field Emission Scanning Electron Microscopy and UV-VIS-NIR spectrophotometer were used to characterize the structure, morphology and transmittance spectrum of the TiO2 thin film. X-ray diffraction showed that the TiO2 thin film included both anatase and rutile phases and the Field Emission Scanning Electron Microscopy indicated the average crystal size was 35 nm. Optical parameters of the TiO2 thin film such refractive index, extinction coefficient; thickness and band gap were measured by Swanepoel method based on the transmittance spectrum.

Keyword: nanostructure, TiO2, thin film, optical properties.

OCIS codes: 160.4670, 160.4760, 240.0310

Submitted 14.03.2015

ЛИТЕРАТУРА

1.         Righettoni M., Amann A., Pratsinis S.E. Breath analysis by nanostructured metal oxides as chemo-resistive gas sensors // Materials Today. 2015. V. 18. P. 163–171.

2.         Kiriakidis G., Binas V. Metal oxide semiconductors as visible light photocatalysts // J. Korean Phys. Soc. 2014. V. 65. P. 297–302.

3.         Vyas S., Tiwary R., Shubham K., Chakrabarti P. Study the target effect on the structural, surface and optical properties of TiO2 thin film fabricated by RF sputtering method // Superlattices and Microstructures. 2015. V. 80. P. 215–221.

4.        Pjevic D., Obradovic M., Marinkovic T., Grce A., Milosavljevic M., Grieseler R., Kups T., Wilke M., Schaaf P. Properties of sputtered TiO2 thin films as a function of deposition and annealing parameters // J. Phys. B: Condensed Mater. 2015. V. 463. P. 20–25.

5.         Eshaghi A., Pakshir M., Mozaffarinia R. Preparation and photo-induced superhydrophilicity of composite TiO2–SiO2–In2O3 thin film // Applied Surface Science. 2010. V. 256. P. 7062–7066.

6.         Gonzalez J.S., Parralejo A.D., Ortiz A.L., Guiberteau F. Determination of optical properties in nanostructured thin films using the Swanepoel method // Applied Surface Science. 2006. V. 252. P. 6013–6017.

7.         Swanepoel R.J. Determination of the thickness and optical constants of amorphous silicon // J. Phys. E: Scientific Instruments. 1983. V. 16. P. 1214–1218.

8.        Manifaciar J.C., Gasiot J., Fillard J.P. A simple method for the determination of the optical constants n, k and the thickness of a weakly absorbing thin film // J. Phys. E: Scientific Instruments. 1976. V. 9. P. 1002–1005.

9.        Ilican S., Cag Llar M., Caglar Y. Determination of the thickness and optical constants of transparent indium-doped ZnO thin films by the envelope method // Materials Science – Poland. 2007. V. 25. P. 709–717.

10.       Carp O., Huisman C.L., Reller A. Photoinduced reactivity of titanium dioxide // Progress in Solid State Chemistry. 2004. V. 32. P. 33–177.

 

 

Полный текст >>