Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 01.12.2015 допущен ВАК для публикации основных результатов диссертаций как издание, входящее в международные реферативные базы систем цитирования (Web Science, Scopus) (см. Vak.ed.gov.ru Перечень журналов МБД 16.03.2018г)

Аннотации (03.2016) : СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЗРАЧКА ДЛЯ ВНЕОСЕВОГО ОСВЕЩЕНИЯ В ОПТИЧЕСКОЙ ЛИТОГРАФИИ. A METHOD OF PUPIL SHAPING FOR OFF-AXIS ILLUMINATION IN OPTICAL LITHOGRAPHY

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЗРАЧКА ДЛЯ ВНЕОСЕВОГО ОСВЕЩЕНИЯ В ОПТИЧЕСКОЙ ЛИТОГРАФИИ. A METHOD OF PUPIL SHAPING FOR OFF-AXIS ILLUMINATION IN OPTICAL LITHOGRAPHY

 

© 2016   Ming Chen*,**; Fang Zhang**; Aijun Zeng*,**; Jing Zhu*,**; Baoxi Yang*,**; Huijie Huang*,**

*   Шанхайский институт оптики и точной механики Китайской академии наук, Шанхай, Китай

** Университет Китайской академии наук, Пекин, Китай

Е-mail:  aijunzeng@siom.ac.cn

Внеосевое освещение фотошаблона – один из ключевых способов повышения разрешающей способности проекционной системы. Для его осуществления в большинстве конструкций литографов используются фазовые дифракционные оптические элементы. В работе предложен метод формирования выходного зрачка осветительной системы внеосевого освещения фотошаблона, основанный на использовании расширителя пучка, двух аксиконов, осевого дифракционного оптического элемента и фурье-объектива. Метод обеспечивает исключение осевого освещения фотошаблона при относительной простоте конструкции осветительной системы. Приведены результаты расчета структуры дифракционных оптических элементов, обеспечивающих различные условия внеосевого освещения фотошаблона.

 

 

© 2016   Ming Chen*,**; Fang Zhang**; Aijun Zeng *,**; Jing Zhu*,**; Baoxi Yang*,**; Huijie Huang*,**

*   Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China

** University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, China

Е-mail:  aijunzeng@siom.ac.cn

Off-axis illumination is one of the key resolution enhancement technologies in projection lithography system. Phase type diffractive optical elements are adopted by most of the lithography machine manufactures to realize off-axis illumination. In this paper, a method of pupil shaping for off-axis illumination in optical lithography is introduced which contains a zoom beam expander, an, circularly symmetric diffractive optical elements and a Fourier lens. The method could produce required illumination pattern for off-axis illumination at pupil plane. Compared with the conventional method of off-axis illumination, the method in this paper could eliminate deterioration of the pupil thoroughly and reduces the difficulty of the optical design of zoom lens. Base on this method, several circularly symmetric diffractive optical elements are designed for experiments, and a remarkable improvement in eliminating deterioration of the pupil is observed compared with the conventional method.

Keywords: optical lithography, off-axis illumination, axicon, diffractive optical element, Fourier lens.

OCIS codes: 110.5220, 090.1970, 220.4830

Submitted: 06.09.2015

ЛИТЕРАТУРА

1.         Himel M.D., Hutchins R.E., Colvin J.C., Poutous M.K., Kathman A.D., and Fedor A.S. Design and fabrication of customized illumination patterns for low k1 lithography: A diffractive approach // Proc. SPIE. 2001. V. 4691. P. 1436–1442.

2.         Levinson H.J. Principles of lithography. Bellingham, Washington, USA: SPIE Press, 2005. 524 p.

3.         Qiaofeng T., Yingbai Y., and Cuofan J. Statistic analysis of influence of phase distortion on diffractive optical element for beam smoothing // Opt. Exp. 2004. V. 12. № 14. P. 3270–3278.

4.        Tan L.Y., Yu J.J., Ma J., Yang Y.Q., Li M., Jiang Y.J., Liu J.F., and Han Q.Q. Approach to improve beam quality of inter-satellite optical communication system based on diffractive optical elements // Opt. Exp. 2009. V. 17. № 8. P. 6311–6319.

5.         Caley A.J., Thomson M.J., Liu J.S., Waddie A.J., and Taghizadeh M.R. Diffractive optical elements for high gain lasers with arbitrary output beam profiles // Opt. Exp. 2007. V. 15. № 17. P. 10699–10704.

6.        Takahashi K. Illumination system for superposing light beams one upon another on a surface using a projecting system having different focal point positions // U.S. patent 5719617. 1998.

7.         CARL ZEISS SMT GMBH. Filter device for the compensation of an asymmetric pupil illumination // U.S. patent 8636386. 2014.

8.        NIKON CORPORATION. Illumination optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, compensation filter, and exposure optical system // U.S. patent 8908151. 2014.

9.        Wei L., Li Y., Liu L. Detailed illuminator design for full field ArF lithography system with a method based on the fly’s eye // Proc. SPIE. 2012. V. 8550. P. 855032-1–855032-11.

10.       Zhang F., Zhu J., Yue W., Wang J., Song Q., Situ G., Wyrowski F., and Huang H. An approach to increase efficiency of DOE based pupil shaping technique for off-axis illumination in optical lithography // Opt. Exp. 2015. V. 23. № 4. P. 4482–4493.

11.       Hu Z., Zhu J., Yang B., Xiao Y., Zeng A., and Huang H. Test of diffractive optical element for DUV lithography system using visible laser // Proc. SPIE. 2012. V. 8557. P. 855709.

12.       Childers J.E., Baker T., Emig T., Carriere J., and Himel M.D. Advanced testing requirements of diffractive optical elements for off-axis illumination in photolithography // Proc. SPIE. 2009. V. 7430. P. 74300S.

13.       Welch K., Fedor A., Felder D., Childers J., and Emig T. Improvements to optical performance in diffractive elements used for off-axis illumination // Proc. SPIE. 2009. V. 7430. P. 743005.

14.       Gerchberg R.W. and Saxton W.O. A practical algorithm for the determination of phase from image and diffraction plane pictures // Optik. 1972. V. 2. № 35. P. 237–246.

15.       Kirkpatrick S., Gelatt C.D., and Vecchi M.P. Optimization by simulated annealing // Science. 1983. V. 220. № 4598. P. 671–680.

16.       Yoshikawa N., Itoh M., and Yatagai T. Quantized phase optimization of two-dimensional Fourier kinoforms by a genetic algorithm // Opt. Lett. 1995. V. 20. № 7. P. 752–754.

 

 

Полный текст >>>