Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 01.12.2015 допущен ВАК для публикации основных результатов диссертаций как издание, входящее в международные реферативные базы систем цитирования (Web Science, Scopus) (см. Vak.ed.gov.ru Перечень журналов МБД 16.03.2018г)

Аннотации (04.2016) : ЭЛЛИПСОМЕТРИЯ TiOx-ПОКРЫТИЙ, ОСАЖДЕННЫХ В МАГНЕТРОННОЙ УСТАНОВКЕ С НЕСБАЛАНСИРОВАННОЙ МАГНИТНОЙ СИСТЕМОЙ. ВЛИЯНИЕ КОНЦЕНТРАЦИИ КИСЛОРОДА И ДИСТАНЦИИ “МАГНЕТРОН–ПОДЛОЖКА”

ЭЛЛИПСОМЕТРИЯ TiOx-ПОКРЫТИЙ, ОСАЖДЕННЫХ В МАГНЕТРОННОЙ УСТАНОВКЕ С НЕСБАЛАНСИРОВАННОЙ МАГНИТНОЙ СИСТЕМОЙ. ВЛИЯНИЕ КОНЦЕНТРАЦИИ КИСЛОРОДА И ДИСТАНЦИИ “МАГНЕТРОН–ПОДЛОЖКА”

 

© 2016 г.     В. М. Нарцев, канд. техн. наук; А. Б. Аткарская, доктор техн. наук; С. В. Зайцев; Н. В. Осипенко, аспирант; Д. С. Прохоренков; Е. И. Евтушенко, доктор техн. наук

Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова, Белгород

Е-mail: nvm84@yandex.ru

Методом спектральной модуляционной эллипсометрии исследованы структура и оптические свойства тонких TiOx-покрытий, осажденных магнетронным методом при различных концентрациях кислорода в плазме, рабочем давлении 0,28 Па и разрядном токе 5,6 А. Установлено, что в зависимости от доли O2 в плазме формируются 3 типа покрытий: полупрозрачные трехслойные, прозрачные двухслойные и прозрачные трехслойные. Последние имеют плотный контактный слой толщиной до 50 нм, оптические характеристики которого соответствуют кристаллическим анатазу и/или рутилу. Установлены корреляции между шероховатостью, энергией запрещенной зоны и концентрацией примесей в плазме. Отмечено, что при 19 об.% О2 в плазме осаждаются покрытия с низким показателем преломления (2,347), низкой энергией запрещенной зоны (3,31 эВ) и высокой шероховатостью (16,8 нм), что должно увеличивать фотокаталитическую активность покрытий.

Ключевые слова: покрытие, оксиды титана, магнетронное напыление, спектральная эллипсометрия, фотокаталитические свойства.

Коды OCIS: 240.0310

УДК 621.793.18:538.958

Поступила в редакцию 15.06.2015.

ЛИТЕРАТУРА

1.         Stenzel O. Optical coatings. Material aspects in theory and practice. Berlin, Heidelberg: Springer-Verlag, 2014. 378 p.

2.         Hashimoto K., Irie H., Fujishima A. TiO2 photocatalysis: a historical overview and future prospects // Japanese Journal of Applied Physics. 2005. V. 44. № 12. P. 8269–8285.

3.         Diebold U. The surface science of titanium dioxide // Surface Science Reports. 2003. V. 48. P. 53–229.

4.        Mahieu S., Ghekiere P., Depla D., De Gryse R. Biaxial alignment in sputter deposited thin films // Thin Solid Films. 2006. V. 515. № 4. P. 1229–1249.

5.         Manova D., Gerlach J.W., Mändl S. Thin film deposition using energetic ions // Materials. 2010. V. 3. № 8. P. 4109–4141.

6.        Gouttebaron R., Cornelissen D., Snyders R., Dauchot J.P., Wautelet M., Hecq M. XPS study of TiOx thin films prepared by d.c. magnetron sputtering in Ar–O2 gas mixtures // Surface and Interface Analysis. 2000. V. 30. № 1. P. 527–530.

7.         Barocha P., Musil J., Vlceka J., Namc K.H., Han J.G. Reactive magnetron sputtering of TiOx films // Surface & Coatings Technology. 2005. V. 193. № 1–3. P. 107–111.

8.        Forouhi A.R., Bloomer I. Optical dispersion relations for amorphous semiconductors and amorphous dielectrics // Physical Review B. 1986. V. 34. № 10. P. 7018–7026.

9.        Man-Il Kang, Sok Won Kim, Yong-Gi Kim, Ji-Wook Ryu. Dependence of the optical anisotropy of ZnO thin films on the structural properties // Journal of the Korean Physical Society. 2010. V. 57. № 2. P. 389–394.

10.       Welzel Th. Time-resolved characterisation of pulsed magnetron discharges for the deposition of thin films with plasma diagnostic methods // Habilitationsschrift. Chemnitz: Chemnitz University of Technology, 2010. 188 p.

11.       Нарцев В.М., Аткарская А.Б., Евтушенко Е.И., Ващилин В.С., Прохоренков Д.С., Зайцев С.В. Исследование доли кислорода в плазме на фазовый состав TiOx-покрытий, осажденных магнетронным методом // Огнеупоры и техническая керамика. 2015. № 3. С. 10–16.

12.       Solovan M.N., Maryanchuk P.D., Brus V.V., Parfenyuk O.A. Electrical and optical properties of TiO2 and TiO2:Fe thin films // Inorganic Materials. 2012. V. 48. № 10. P. 1026–1032.

13.       Нарцев В.М., Зайцев С.В., Прохоренков Д.С., Осипенко Н.В., Евтушенко Е.И. Исследование свойств TiOx-покрытий, формируемых с использованием вакуум-плазменных технологий // Фундаментальные исследования. 2012. № 11. С. 1195–1200.

 

 

Полный текст >>>