Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения
- Редакционная этика


Контакты

Подписка

Карта сайта




Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
Аннотации (05.2017) : УЛУЧШЕНИЕ ТОЧНОСТИ ИЗМЕРЕНИЙ ДАТЧИКА ЭНЕРГИИ ИМПУЛЬСОВ ИЗЛУЧЕНИЯ ЭКСИМЕРНОГО ЛАЗЕРА НА ОСНОВЕ СПЕЦИАЛЬНОГО ФИЛЬТРА ИМПУЛЬСНОГО ОТКЛИКА С КОНЕЧНОЙ ДЛИТЕЛЬНОСТЬЮ

УЛУЧШЕНИЕ ТОЧНОСТИ ИЗМЕРЕНИЙ ДАТЧИКА ЭНЕРГИИ ИМПУЛЬСОВ ИЗЛУЧЕНИЯ ЭКСИМЕРНОГО ЛАЗЕРА НА ОСНОВЕ СПЕЦИАЛЬНОГО ФИЛЬТРА ИМПУЛЬСНОГО ОТКЛИКА С КОНЕЧНОЙ ДЛИТЕЛЬНОСТЬЮ

 

© 2017 г.       Chengke Xie*; Ming Chen*; Jing Zhu*,**; Baoxi Yang*,**; Huijie Huang*,**

*   Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China

** University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, China

E-mail: xchke@126.com

При создании литографических устройств, работающих в дальней ультрафиолетовой области спектра, важна точность измерения энергии импульсов эксимерных лазеров. Проведение измерений в процессе мониторинга лазерных импульсов для контроля экспозиционной дозы осложняется наличием шумов датчиков энергии. Для улучшения точности измерений и уменьшения влияния шумов предложен специальный фильтр импульсного отклика с конечной длительностью. В частности, ядро свертки этого фильтра получается из условия нелинейной подгонки формы выходного импульса источника. Экспериментально показано, что точность измерений с таким фильтром улучшается приблизительно в 2–3 раза. Для проверки работоспособности датчика энергии были проведены измерения пропускания эталона, изготовленного из стекла Corning 7890, продемонстрировавшие погрешность измерений 0,11% и совпадение результатов с измеренными стандартными ультрафиолетовыми спектрометрами.

Ключевые слова: жидкокристаллические модуляторы, световые поля со сложной пространственной структурой, динамическое управление.

 

Measurement precision improvement for excimer laser pulse energy sensor based on a special finite impulse response filter

© 2017    Chengke Xie*; Ming Chen*; Jing Zhu*,**; Baoxi Yang*,**; Huijie Huang*,**

** Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China

** University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, China

E-mail: xchke@126.com

Submitted 17.02.2016

In deep ultraviolet lithographic tools, precise measurement of excimer laser pulse energy is essential. However, system noises of the energy sensor, which is used to monitor laser pulse during exposure dose control, complicate pulse energy measurement. To improve measurement precision, a specific finite impulse response filter is proposed for signal denoising. Particularly, the convolution kernel of the specific finite impulse response filter is derived from the nonlinear fitting of the energy sensor output. Experimental results show that measurement precision of the energy sensor improves 2–3 times with the specific finite impulse response filter. To verify the effectiveness of the energy sensor, it is used for transmittance measurement; the measurement result of a Corning 7980 witness sample is consistent with that measured by a commercial ultraviolet spectrophotometer and the measurement accuracy is 0.11% (k = 2).

Keywords: photolithography, excimer lasers, detectors, optical standards and testing, metrology, transmission.

OCIS codes: 110.5220; 140.2180; 250.0040; 120.4800; 120.3940; 120.7000

 

References

1.         Postnikov S., Hector S., Garza C., Peters R, Ivin V. Critical dimension control in optical lithography // Microelectronic Eng. 2003. V. 69. P. 452–458.

2.         Kivenzor G. and Zimmerman R. Dose metrology for DUV lithographic tools // Proc. SPIE. 2001. V. 4404. P. 368–371. 

3.         Tracy D.H., Wu F.Y. Exposure dose control techniques for excimer laser lithography // Proc. SPIE. 1988. V. 922. P. 437–443. 

4.        Guo L., Huang H., Wang X., and Zhang D. Exposure dose control for step-and-scan lithography // Proc. SPIE. 2005. V. 5645. P. 217–222.

5.         Liu S., Wu X. Real-time exposure dose control algorithm for DUV excimer lasers // Acta Optica Sinica (in Chinese). 2011. V. 26. P. 878–884.

6.        Hu C. Design and verification of FIR filter based on Matlab and DSP // Proc. Intern. Conf. Image Analysis and Signal Processing (IASP). 2012. 

7.         Chen X. and Koenders L. A novel pitch evaluation of one-dimensional gratings based on a cross-correlation filter // Meas. Sci. Technol. 2014. V. 25. P. 044007.

8.        Diaz-Ramirez V.H., Picos K., and Kober V. Target tracking in nonuniform illumination conditions using locally adaptive correlation filters // Opt. Commun. 2014. V. 323. P. 32–43. 

9.        Xu P., Miao Q., Tang X., and Zhang J. A denoising algorithm via wiener filtering in the shearlet domain // Multimed Tools Appl. 2014. V. 71. P. 1529–1558. 

10.       Zhao S., Shmaliy Y.S., Liu F. Fast computation of discrete optimal FIR estimates in white Gaussian noise // IEEE Signal Process. Lett. 2015. V. 22. P. 718–722.

 

 

Полный текст