Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
 
   
Русский вариант сайта Английский вариант сайта
   
       
   
       
Статьи последнего выпуска

Электронные версии
выпусков начиная с 2008


Алфавитный указатель
2000-2010 гг


444
Архив оглавлений
выпусков 2002-2007 гг


Реквизиты и адреса

Вниманию авторов и рецензентов!
- Порядок публикации
- Порядок рецензирования статей
- Типовой договор
- Правила оформления
- Получение авторского вознаграждения


Контакты

Подписка

Карта сайта





Журнал с 19.02.2010 входит в новый «Перечень ведущих рецензируемых научных журналов и изданий, в которых должны быть опубликованы основные научные результаты диссертации на соискание ученой степени доктора и кандидата наук»
Выпуски : - - - Статьи выпуска 09, том 80 , сентябрь, 2013

- - - Статьи выпуска 09, том 80 , сентябрь, 2013

ФИЗИЧЕСКАЯ ОПТИКА

Performance Evaluation of Optical Add Drop Multiplexers with Mach-Zehnder interferometer Techniques for Dense Wavelength Division Multiplexed System

Оценка характеристик оптических мультиплексоров на базе интерферометра Маха-Цендера для волоконных систем с плотным спектральным уплотнением

Sanjeev Dewra, Kaler R.S.

стр. 3-10                                         Аннотация                                    Полный текст


ЛАЗЕРНАЯ ФИЗИКА И ТЕХНИКА

Исследование кинетики электропроводности кристаллов КТР, применяемых в модуляторах твердотельных лазеров

Русов В.А., Захаров Н.А., Каплун А.Б., Мешалкин А.Б., Горчаков А.В.

стр. 11-16                                        Аннотация                                    Полный текст

 

РАСЧЕТ, ПРОЕКТИРОВАНИЕ И ПРОИЗВОДСТВО ОПТИЧЕСКИХ СИСТЕМ

Выбор оптимальной конструкции оптического затвора на π -ячейке

Симоненко Г.В., Студенцов С.А., Ежов В.А.

стр. 17-22                                       Аннотация                                  Полный текст


Измерение инструментальной поляризации, вносимой катадиоптрическим объективом

Савикин А.П., Шутов А.М.

стр. 23-26                                      Аннотация                                  Полный текст


Концепция построения оптической схемы панорамного стокс-поляриметра для малых телескопов

Синявский И.И., Иванов Ю.С., Видьмаченко А.П.

стр. 27-32                                       Аннотация                                Полный текст


The choice method of light source radius in X-ray phase contrast imagins system

Выбор радиуса источника в фазовоконтрастном методе формирования рентгеновских изображений

Jie Wu

стр. 33-38                                      Аннотация                                   Полный текст


ОПТИЧЕСКОЕ ПРИБОРОСТРОЕНИЕ И ТЕХНОЛОГИЯ

Автоколлимационный нуль-индикатор: разработка и применение в динамической гониометрии

Ларичев Р.А., Филатов Ю.В.

стр. 39-44                                      Аннотация                                  Полный текст

 

Оптический цифровой автоматизированный измеритель отклонений от прямолинейности

Королев А.Н., Лукин А.Я., Полищук Г.С., Трегуб В.П.

стр. 45-50                                      Аннотация                                  Полный текст


Телевизионная аппаратура для работы в условиях высоких радиационных полей

Сенаторов В.Н., Катунин Е.И.

стр. 51-53                                    Аннотация                                  Полный текст


Математическое моделирование регистрируемых сигналов в медицинской лазерной неинвазивной флюоресцентной диагностике

Рогаткин Д.А., Смирнова О.Д.

стр. 54-60                                      Аннотация                                 Полный текст

 

ОПТИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ И ТЕХНОЛОГИЯ

Сравнительный анализ критериев устойчивости интерференционных покрытий

Котликов Е.Н., Новикова Ю.А.

стр. 61-67                                       Аннотация                                  Полный текст

 

Изменение шероховатости поверхности CVD-ZnSe при механической обработке в зависимости от размера зерна суспензии

Вилкова Е.Ю., Тимофеев О.В., Носов С.А., Дубовой А.Н.

стр. 68-72                                      Аннотация                                   Полный текст

 

ПИСЬМА В РЕДАКЦИЮ

Новый метод формирования литографической маски или рельефа непосредственно в процессе электронно-лучевого экспонирования резиста

Брук М.А., Жихарев Е.Н., Кальнов В.А., Спирин А.В., Стрельцов Д.Р.

стр. 73-76                                       Аннотация                                  Полный текст