Влияние режима ионного распыления на микрорельеф голограммных дифракционных решеток

Файзрахманов И.А., Саттаров Ф.А., Лукин А.В., Хайбуллин И.Б. Влияние режима ионного распыления на микрорельеф голограммных дифракционных решеток // Оптический журнал. 2004. Т.71. №1 С. 26-29.

Faizrakhmanov I.A., Sattarov F.A., Lukin A.V., Khaibullin I.B. How the ion-sputtering regime affects the microrelief of holographic diffraction gratings [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2004. V. 71. No 1. P. 26-29.

Faizrakhmanov I.A., Khaibullin I.B., Sattarov F.A., Lukin A.V. How the ion-sputtering regime affects the microrelief of holographic diffraction gratings // Journal of Optical Technology. 2004. V. 71. № 1. P. 23-25. https://doi.org/10.1364/JOT.71.000023

Проведены компьютерное моделирование и экспериментальное исследование влияния ионного распыления на профиль штрихов голограммных дифракционных решеток. Установлено, что компьютерное моделирование хорошо описывает полученные экспериментальные результаты, что позволяет использовать его для целенаправленного поиска оптимальных режимов ионного профилирования голограммных дифракционных решеток.