en
Назад
УДК: 53.082.53
Эллипсометрические исследования особенностей формирования пленок HfO2 на оптическом стекле
Полный текст «Оптического журнала»
Полный текст на elibrary.ru
Публикация в Journal of Optical Technology
Одарич В.А. Эллипсометрические исследования особенностей формирования пленок HfO2 на оптическом стекле // Оптический журнал. 2009. Т. 76. № 5. С. 73–79.
Odarich V.A. Ellipsometric studies of the features of the formation of HfO2 films on optical glass [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2009. V. 76. № 5. P. 73–79.
W. A. Odarych, "Ellipsometric studies of the features of the formation of HfO2 films on optical glass," Journal of Optical Technology. 76 (5), 306-311 (2009). https://doi.org/10.1364/JOT.76.000306
В спектральной области 314–632 нм проведены многоугловые эллипсометрические исследования пленок диоксида гафния толщиной 30–300 нм, нанесенных на оптическое стекло методом напыления материала электронным пучком. Обнаружено, что совокупность эллипсометрических данных можно описать в модели двухслойной отражательной системы. Найдены параметры системы. Внутренний слой является однородным, его показатель преломления в пределах погрешности процедуры вычисления одинаковый для всех исследованных образцов, а толщина растет в процессе напыления пленки. Внешний слой имеет меньший показатель преломления, чем внутренний, а его толщина для разных образцов изменяется в пределах 10–20 нм.
диоксид гафния, микроструктура пленки, однослойная модель, двухслойная модель
Коды OCIS: 240.0310, 240.2130
Список источников:1. Bogorno J.P., Lazarides B., Pelletier E. The automatic determination of optical constants of unhomogeneous thin films // Appl. Opt. 1982. V. 21. № 22. P. 4020–4029.
2. Martin P.J., Netterfield R.P. Optimization of deposition parameters in ion-assisted deposition films // Thin Solid Films. 1991. V. 199. № 2. P. 351–358.
3. Edlou S.M., Smajkelwicz A., Al-Jumaily G.A. Optical properties and environmental stability of oxide coatings, deposited by reactive sputtering // Appl. Opt. 1993. V. 32. № 28. P. 5601–5605.
4. Reicher D., Black P., Jungling K. Defects formation in hafnium oxide thin films // Appl. Opt. 2000. V. 39. № 10. P. 1589–1599.
5. Al-Kuhaili M.F., Durrani S.M.A., Khavaja E.E. Study of hafnium oxide thin films, produced by the electron-beam deposition // J. Phys. D. 2004. V. 37. № 8. P. 1254–1261.
6. Al-Kuhaili M.F. Optical properties of hafnium oxide thin films and their application in energyefficient windows. // Opt. Mat. 2004. V. 27. № 3. P. 383–387.
7. Lehan J.P., Vao Y., Bovard B.G., Macleod M.A. Optical and microsructurial properties of HfO2 // Thin Solid Films. 1991. V. 203. № 2. P. 227–250.
8. Dewei Zhang, Shuhai Fan, Yuanan Zhao, Weidong Gao, Jianda Shao, Ruiying Fan, Yingjian Wang, Zhengxiu Fan. High laser-induced damage threshold HfO2 films prepared by ion-assisted electron beam evaporation // Appl. Surface Sci. 2005. V. 243. № 1. P. 232– 237.
9. Modreanu M., Sancho-Parramon J., O′Connell D., Justice J., Durand O., Servet B. Solid phase crystallisation of HfO2 thin films // Mat. Sci. and Eng. 2005. V. B118. № 1. P. 127–131.
10. Conley J.F., Jr., Ono Y., Tweet D.J., Zhuang W., Solanki R. Atomic layer deposition of thin hafnium oxide films using a carbon free precursor // J. Appl. Phys. 2003. V. 93. № 1. P. 712–718.
11. Одарич В.А., Панасюк В.Й., Стащук В.С. Спектроэллипсометрические исследования показателя преломления и толщины слоев HfO2 на оптическом стекле // ЖПС. 1992. Т. 56. № 5–6. C. 827–830.
12. Одарич В.А. Еліпсометричні дослідження шарів HfO2, SiO2 та Al2O3 на кварцовому склі // Укр. фіз. ж. 2000. Т. 45. № 1. C. 44–49.
13. Odarych W.A. Determination of the surface region structure from ellipsometric data // Functional Materials. 2000. V. 7. № 3. P. 475–479.
14. Одарич В.А. Измерение малых величин эллипсометрических параметров // Завод. лаборатория. 1970. Т. 43. № 9. С. 1093–1095.
15. ГОСТ 13659-68. Стекло оптическое бесцветное. Физ.-хим. свойства. М.: изд-во стандартов, 1968. 60 с.
16. Одарич В.А., Москаленко Т.П., Ципенюк Р.Є. Визначення параметрів відбиваючої системи методом еліпсометрії головного кута. Пряма задача еліпсометрії // Вісник КУ. Фіз.-мат. н. 1991. Вип. 2. С. 73-78.
17. Вуйчик М.В., Євменова А.З., Одарич В.А., Сизов Ф.Ф. Еліпсометричні дослідження плівок CdTe на CdHgTe // Фізика і хімія твердого тіла. Physics and Chemistry of Solids State. 2007. Т. 8. № 2. С. 296–300.
18. Harris M., Macleod H.A., Ogura S., Pelletier E., Vidal B. The relationship between optical inhomogeneity and film structure // Thin Solid Films. 1979. V. 57. № 1. P. 173–178.
19. Harris M., Bowden M., Macleod H.A. Refractive index variations in dielectric films having columnar microstructure // Opt. Com. 1984. V. 51. № 1. P. 29–32.