УДК: 541.1
Получение особо чистых химических материалов для процессов химического, плазмохимического и пиролитического осаждения тонких оксидных слоев
Полный текст «Оптического журнала»
Полный текст на elibrary.ru
Публикация в Journal of Optical Technology
Потелов В.В. Получение особо чистых химических материалов для процессов химического, плазмохимического и пиролитического осаждения тонких оксидных слоев // Оптический журнал. 2009. Т. 76. № 8. С. 36–40.
Potelov V.V. Obtainin high-purity chemical materials for chemical, plasmachemical and purolytic deposition of thin oxide films [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2009. V. 76. № 8. P. 36–40.
V.V. Potelov, "Obtainin high-purity chemical materials for chemical, plasmachemical and purolytic deposition of thin oxide films," Journal of Optical Technology. 76 (8), 478-481 (2009). https://doi.org/10.1364/JOT.76.000478
Рассмотрены вопросы очистки кремнийэлементорганических соединений и алкоголятов элементов методами ректификации, кристаллизации и адсорбции для процессов получения тонких оксидных слоев, а также многослойных структур различного функционального назначения.
кремнийэлементорганические соединения, особо чистые вещества, ректификация, кристаллизация, адсорбция
Коды OCIS: 220.4610, 160.4670, 160.4760
Список источников:1. Зельвенский Я.Д., Титов А.А., Шалыгин В.А. Ректификация разбавленных растворов // Химия. Л.,1974. № 2. С. 216.
2. Протасова Л.В. Гибкие ХТС для получения кремнийэлементоорганических соединений // Канд. дисс. М.: РХТУ им. Менделеева, 1998. 124 с.
en