УДК: 535-31

Размерные характеристики полимерных микроструктур при УФ-отверждении нанокомпозита

Ворзобова Н.Д., Булгакова В.Г., Бурункова Ю.Э.

Полный текст на elibrary.ru

Публикация в Journal of Optical Technology

Ссылка для цитирования:

Ворзобова Н.Д., Булгакова В.Г., Бурункова Ю.Э. Размерные характеристики полимерных микроструктур при УФ-отверждении нанокомпозита // Оптический журнал. 2010. Т. 77. № 10. С. 72–77.

Vorzobova N.D., Bulgakova V.G., Burunkova Yu.E. Size characteristics of polymeric microstructures accompanying the UV hardening of a nanocomposite [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2010. V. 77. № 10. P. 72–77.

Ссылка на англоязычную версию:

N. D. Vorzobova, V. G. Bulgakova, and Yu. É. Burunkova, "Size characteristics of polymeric microstructures accompanying the UV hardening of a nanocomposite," Journal of Optical Technology. 77(10), 649-653 (2010). https://doi.org/10.1364/JOT.77.000649

Аннотация:

Исследованы закономерности формирования трехмерных полимерных микроструктур в УФ-отверждаемом нанокомпозите. Установлена связь размерных характеристик элементов микроструктур с экспозиционными параметрами, характеристиками амплитудной маски, толщиной слоя. Определены пути уменьшения характеристических размеров элементов микроструктур и увеличения форматного отношения.

Ключевые слова:

полимерная микроструктура, нанокомпозит, фотополимеризация, глубокая литография, характеристический размер, форматное отношение

Благодарность:

Работа выполнена при проведении НИР ГК П570 в рамках реализации ФЦП “Научные и научно-педагогические кадры инновационной России” на 2009–2013 гг.

Коды OCIS: 160.4670; 160.5470

Список источников:

1. Munnik F., Benninger F., Mikhailov S., Bertsch A., Renaud P., Lorenz H., Gmur M. High aspect ratio, 3D structuring of photoresist materials by ion beam LIGA // Microelectronic Engineering. 2003. V. 67 68. P. 96–103.
2. Mappes T., Achenbach S., Mohr J. X-ray lithography for devices with high aspect ratio polymer submicron structures // Microelectronic Engineering. 2007. V. 84. P. 1235–1239.
3. Kasztelanic R. Multilevel structures in deep proton lithography // J. Micro/Nanolith. MEMS and MOEMS. 2008. V. 7. № 1.
4. Liu G., Tian Y., Kan Y. Fabrication of high-aspect-ratio microstructures using SU8 photoresist // Microsystem Technologies. 2005. V. 11. P. 343–346.
5. Williams J.D., Wang W. Study on the postbaking process and the effects on UV lithography of high aspect ratio SU-8 microstructures // Journal of Microlithography, Microfabrication, and Microsystems. 2004. V. 3. № 4. P. 563–568.
6. Andrzejewska E. Photopolymerization kinetics of multifunctional monomers // Prog. Polym. Sci. 2001. V. 26. P. 605–665.
7. Смирнова Т.В., Бурункова Ю.Э., Денисюк И.Ю. Измерение усадок УФ-отверждаемых композиций на основе акрилатов и диакрилатов // Оптический журнал. 2006. Т. 73. № 5. C. 57–61.
8. Бурункова Ю.Э., Семьина С.А., Капорский Л.Н., Левичев В.В. Наномодифицированные оптические акрилатные композиты // Оптический журнал. 2008. Т. 75. № 10. С. 54–57.
9. Fokina M. Optical surface making by UV-curing of monomeric compositions in near field of coherent light source // Molecular Crystals and Liquid Crystals. 2007. V. 468. P. 385–394.
10. Denisyuk I.Yu., Fokina M.I., Vorzobova N.D., Burunkova Yu.E., Bulgakova V.G. Microelements with high aspect ratio prepared by self-focusing of the light at UV-curing // Molecular Crystals and Liquid Crystals. 2008. V. 497. P. 228–235.
11. Денисюк И.Ю., Бурункова Ю.Э., Фокина М.И., Ворзобова Н.Д., Булгакова В.Г. Формирование микроструктур с высоким форматным отношением в результате самофокусировки света в фотополимерном нанокомпозите // Оптический журнал. 2008. Т. 75. № 10. С. 59–65.
12. Takada K., Kaneko K., Li Y.D., Kawata S., Chen Q.D., Sun H.B. Temperature effects on pinpoint photopolymerization and polymerized microstructures // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 92. 041902. P. 1–3.