УДК: 53.082.54

Качество оптической поверхности, обработанной с применением полиуретана

Полный текст на elibrary.ru

Публикация в Journal of Optical Technology

Ссылка для цитирования:

Вишняков Г.Н., Цельмина И.Ю. Качество оптической поверхности, обработанной с применением полиуретана // Оптический журнал. 2012. Т. 79. № 12. С. 68–71.

Vishnyakov G. N., Tsel’mina I. Yu. The quality of an optical surface processed using polyurethane [in English] // Opticheskii Zhurnal. 2012. V. 79. № 12. P. 68–71 .

Ссылка на англоязычную версию:

G. N. Vishnyakov and I. Yu. Tsel’mina, "The quality of an optical surface processed using polyurethane," Journal of Optical Technology. 79(12), 799-801 (2012). https://doi.org/10.1364/JOT.79.000799

Аннотация:

В работе приведены результаты исследования качества оптической поверхности деталей, обработанных с применением полиуретанов трех видов на этапе полирования методом многодетальной обработки. Проведено сравнение с результатами обработки оптических поверхностей деталей по стандартной технологии (на смоле). Показана эффективность данного типа полировальников для достижения наименьшей шероховатости, минимального отклонения формы профиля поверхности и местной погрешности формы поверхности. Применение полиуретанов позволяет получать детали, при обработке на блоке, с малым разбросом по параметрам PV и RMS и увеличивает процент выхода годных изделий по оптической чистоте.

Ключевые слова:

полиуретаны, оптическая поверхность, шероховатость, оптическая чистота

Коды OCIS: 220.5450, 240.6700, 220.4610

Список источников:

1. Tesar A.A., Fuchs B.A. Removal Rates of Fused Silica with corium Oxide/Pitch Polishing. Proc. SPIE. 1991. V. 1531. Р. 80–90.
2. Cumbo M.J. Chemo-mechanical Interactions in Optical Poling // Ph.D. Dissertation. Univ. of Rochester/ Rochester. NY, 1993.
3. DeGroote J.E., Jacobs S.D., Gregg L.L., Marino A.E. Quantitative characterization of optical polishing pitch // Proc. SPIE. 2001. V. 4451. P. 209–221.
4. Berggren R.R., Schmell R.A. Pad polishing for rapid production of large flats // Proc. SPIE 1997. V. 3134. P. 252–257.
5. Yaguo Li, Jing Hou, Qiau Xu, Jian Wang, Wei Yang, Yindio Guo, The Characteristics of Optics polished with a polyurethane pad // OPTICS EXPRESS 10285. 2008. V. 16. № 14. Р. 7–16.
6. Cook L.M. Chemical process in glass polishing // J. Non-Crystaline Solids. 1990. V. 120. P. 152–171.
7. Lu H., Fookes B., Obeng Y., Machinski S., Richardson K.A. Quantitative analysis of physical and chemical changes in CMP polyurethane pad surfaces // Materials Characterizaton. 2002. V. 49. P. 35–44.
8. Kamimura T., Akamatsu S., Yamamoto M., Yamato I., Shiba H., Motokoshi S., Sakamoto T., Okamoto T., Yoshida K. Enhancement of Surface-damage Resistance by Removihg a Subsurface Damage in Fused Silica // Proc. SPIE. 2004. V. 5273. P. 244–249.
9. Ramanathan L.S., Sivam S., Mishrarа M.K. “Poliurethane” // In Polymer Data Handbook. J.E. Mark, ed. Oxford Univ. Press, 1999.