ITMO
en/ en

ISSN: 1023-5086

en/

ISSN: 1023-5086

Научно-технический

Оптический журнал

Полнотекстовый перевод журнала на английский язык издаётся Optica Publishing Group под названием “Journal of Optical Technology“

Подача статьи Подать статью
Больше информации Назад

УДК: 538.971, 539.184

Отложенное действие освещения на релаксацию гранулированной серебряной пленки при термическом отжиге

Ссылка для цитирования:

Вартанян Т.А., Леонов Н.Б., Пржибельский С.Г. Отложенное действие освещения на релаксацию гранулированной серебряной пленки при термическом отжиге // Оптический журнал. 2013. Т. 80. № 2. С. 24–28.

 

Vartanyan T.A., Leonov N.B., Przhibelskiy S.G. Deferred action of illumination on the relaxation of a granular silver film when it is thermally annealed [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2013. V. 80. № 2. P. 24–28.

Ссылка на англоязычную версию:

T. A. Vartanyan, N. B. Leonov, and S. G. Przhibel’skiĭ, "Deferred action of illumination on the relaxation of a granular silver film when it is thermally annealed," Journal of Optical Technology. 80(2), 88-90 (2013). https://doi.org/10.1364/JOT.80.000088

Аннотация:

Обнаружено действие ультрафиолетового излучения в интервале длин волн 300–400 нм на скорость и конечный результат последующего термического отжига тонкой серебряной пленки на сапфировой подложке. В то время как отжиг необлученных пленок быстро приводит к их распаду и образованию отдельных мелких частиц округлой формы, при отжиге облученных пленок образуются более крупные частицы неправильной формы, а сами изменения происходят значительно медленнее.

Ключевые слова:

фотоактивация релаксационных процессов, спектры экстинкции, гранулированные металлические пленки, наноструктуры

Благодарность:

Работа выполнена в рамках государственного контракта 02.740.11.0536.

Коды OCIS: 260.0260, 1000.10000

Список источников:

1. Оура К., Лифшиц В.Г., Саранин А.А., Зотов А.В., Катаяма М. Введение в физику поверхности. М.: Наука, 2006. 490 c.
2. Venables J.A., Spiller G.D.T., Hanbücken M. Nucleation and growth of thin films // Rep. Prog. Phys. 1984. V. 47. P. 399–459.

3. Fu Q., Wagner T. Interaction of nanostructured metal overlayers with oxide surfaces // Surf. Sci. Rep. 2007. V. 62. P. 431–498.
4. Henry C.R. Morfology of supported nanoparticles // Prog. Surf. Sci. 2005. V. 80. P. 92–116.
5. Леонов Н.Б., Пржибельский С.Г., Вартанян Т.А. Обратимая релаксация формы металлических наночастиц и ее ускорение под действием облучения // Письма в ЖЭТФ 2010. Т. 91. С. 136–139.
6. Simrick N.J., Kilner J.A., Atkinson A. Thermal stability of silver thin films on zirconia sustrates // Thin Solid Films. 2012. V. 520. P. 2855–2867.
7. Kim H.C., Alford T.L., Allee D.R. Thickness dependence of the thermal stability of silver thin films // Appl. Phys. Lett. 2002. V. 81. P. 4287–4279
8. Jing Lv, Lai F., Lin L., Lin Y., Huang Zh., Chen R. Thermal stability of Ag films in air prepared by thermal evaporation // Appl. Surf. Sci. 2007. V. 253. P. 7036–7040.
9. Точицкий Э.И. Кристаллизация и термообработка тонких пленок. Минск: Изд. “Наука и техника”, 1976. 311 с.
10. Ивлев В.М., Трусов Л.И., Холмянский В.А. Структурные превращения в тонких пленках. М.: Металлургия, 1988. 125 с.
11. Bevan. K.H., Zhu W., Guo H., Zhang Zh. Terminating Surface Electromigration at the Source // Phys. Rev. Lett. 2011. V. 106. P. 156404-1–156404-4.
12. Tu K.N. Recent advances on electromigration in very-large-scale-integration of interconnects // J. Appl. Phys. 2003. V. 94. P. 5451–5473.
13. Mullins W. W. Theory of Thermal Grooving // J. Appl. Phys. 1957. V. 28. P. 333–339.
14. Бонч-Бруевич А.М., Вартанян Т.А., Максимов Ю.Н., Пржибельский С.Г., Хромов В.В. Фотоотрыв атомов от сплошной поверхности металла // ЖЭТФ. 1990. Т. 97. С. 1761–1766.
15. Hoheisel W., Vollmer M., Trager F. Desorption of metal atoms with laser light: Mechanistic studies // Phys. Rev. B. 1993. V. 48. P. 17463–17476.
16. Combe N., Jensen P., Pimpinelli A. Changing Shapes in the Nanoworld // Phys. Rev. Lett. 2000. V. 85. P. 110–113.
17. Schwoebel R.L. Step Motion on Crystal Surfaces. II // J. Appl. Phys. 1969. V. 40. P. 614–618.