УДК: 53.097, 532.016, 535.15, 535.557, 537.9

Влияние условий напыления пленок окислов полупроводников и металлов на ориентацию жидких кристаллов

Полный текст на elibrary.ru

Публикация в Journal of Optical Technology

Ссылка для цитирования:

Амосова Л.П. Влияние условий напыления пленок окислов полупроводников и металлов на ориентацию жидких кристаллов // Оптический журнал. 2013. Т. 80. № 3. С. 68–78.

Amosova L.P. How the deposition conditions of films of the oxides of semiconductors and metals affect the orientation of liquid crystals [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2013. V. 80. № 3. P. 68–78.

Ссылка на англоязычную версию:

L. P. Amosova, "How the deposition conditions of films of the oxides of semiconductors and metals affect the orientation of liquid crystals," Journal of Optical Technology. 80(3), 179-186 (2013). https://doi.org/10.1364/JOT.80.000179

Аннотация:

В обзоре рассматривается влияние основных параметров режимов напыления окислов полупроводников и металлов на структуру и рельеф осаждаемой пленки и анализируются механизмы ориентации жидких кристаллов (ЖК) с помощью таких пленок. Приводится зависимость между углами напыления, наклона кристаллитов и наклона директора ЖК. Показано, что при увеличении угла напыления ориентирующей пленки относительно плоскости подложки энергетически выгодным может оказаться переход либо к планарной, либо к гомеотропной ориентации ЖК в зависимости от скорости напыления пленки.

Ключевые слова:

жидкие кристаллы, ориентация жидких кристаллов, окислы полупроводников и металлов, наклонное напыление

Благодарность:

Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования и науки Российской Федерации по ГК №11.519.11.4010.

Коды OCIS: 230.3720, 160.3710

Список источников:

1. Jiao M., Ge Z., Song Q., Wu S.-T. Alignment layer effects on thin liquid crystal cells // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 92. P. 061102.
2. John L. Janning. Thin film surface orientation for liquid crystals // Appl. Phys. Lett. 1972. V. 21. № 4. P. 173–174.
3. Горбунов О.Б., Мухаев А.А., Курчаткин С.П., Севостьянов В.П., Филипченко В.Я., Финкильштейн С.Х. Ориентация жидких кристаллов с помощью косонапыленных пленок монооксида германия // Неорганические материалы. 1983. Т. 19. № 3. С. 467–470.
4. Коньяр Ж. Ориентация нематических жидких кристаллов и их смесей // Минск: Университетское, 1986. 104 с.
5. Wilson T., Boyd G.D., Westerwick E.H., Storz F.G. Alignment of Liquid Crystals on Surfaces with Film Deposited Obliquely at Low and High Rates // Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1983. V. 94. P. 359–366.
6. Goodman L.A., McGinn J.T., Anderson C.H., Digeronomo F. Topography of obliquely evaporated silicon oxide films and its effects on liquid crystal orientation // IEEE Trans. Electron Devices. 1977. ED-24. P. 795.
7. Urbach W., Boix M., Guyon E. Alignment of nematics and smectics on evaporated films // Appl. Phys. Lett. 1974. V. 25. № 9. P. 479–481.
8. Wan-Rone Lioua, Chin-Ying Chenb, Jyh-Jier Hoa, Chao-Kuei Hsua, Chung-Cheng Changa, Robert Y. Hsiaoc, Shun-Hsyung Changa. An improved alignment layer grown by oblique evaporation for liquid crystal devices // Displays. 2006. V. 27. № 2. P. 69–72.
9. Mokade M., Martinot-Lagarge Ph., Durand G., Granjean C. SiO Evaporated Films Topography and Nematic Liquid Crystal Orientation // J. Phys. II France. 1997. № 7. P. 1577–1596.
10. Mokade M., Boix M., Durand G. Order Electricity and Oblique Nematic Orientation on Rough Solid Surfaces // Europhysics Letters. 1988. V. 5. № 8. P. 697–702.
11. Celinski Z., Reisman L., Harward I., Glushchenko A. New alignment liquid crystal techniques for operation at harsh ambient conditions and high intensity light // Proc. SPIE. 2009. V. 7329. P. 73290G 1-5.

12. Коншина Е.А., Федоров М.А., Амосова Л.П., Воронин Ю.М. Влияние поверхности на фазовую модуляцию света в слое нематического жидкого кристалла // Журнал технической физики. 2008. Т. 78. № 2. С. 71–76.
13. Liang Dong, Richard W. Smith, David J. Srolovitz. A two-dimensional molecular dynamics simulation of thin film growth by oblique deposition // J. Appl. Phys. 1996. V. 80. № 10. P. 5682–5690.
14. Julian Cheng, Boyd G.D., Storz F.G. A scanning electron microscope study of columnar topography and liquid crystal alignment on obliquely deposited oxide surfaces at low rates // Appl. Phys. Lett. 1980. V. 37. № 8. P. 716–719.
15. Коншина Е.А., Иванова Н.Л., Парфенов П.С., Федоров М.А. Динамика переориентации двухчастотного нематического жидкого кристалла с квазигомеотропной структурой // Оптический журнал. 2010. Т. 77. № 12. С. 45–51.
16. Zhao Y.-P., Ye D.-X., Wang G.-C., Lu T.-M. Designing Nanostructures by Glancing Angle Deposition // Proc. SPIE. 2003. V. 5219. P. 59–73.
17. Trait R.N., Smy T., Brett M.J. Modeling and characterization of columnar growth in evaporated films // Thin Solid films. 1993. V. 226. P. 196.
18. Muller K.H. Dependence of thin-film microstructure on deposition rate by means of a computer simulation // J. Appl. Phys. 1985. V. 58. P. 2573–2576.
19. Paik S.M., Kim S., Schuller I.K., Ramirez R. Surface kinetics and roughness on microstructure formation in thin films // Phys. Rev.B.1991. V. 43. № 2. P. 1843–1846.
20. Cheng Chen, Philip J. Bos, James E. Anderson. Anchoring transitions of liquid crystals on SiOx // Liquid Cystals. 2008. V. 35. № 4. P. 465–481.
21. Dubois-Violette E., de Gennes P.G. Effect of Long Range Van der Waals Forces on the Anchoring of a Nematic Fluid at an Interface // J. Coll. Int. Sci. 1976. V. 57. P. 403.
22. Barbero G., Durand G. Order parameter spatial variation and anchoring energy for nematic liquid crystals // J. Appl. Phys. 1991.V. 69. № 10. P. 6968–6973.
23. Heffner W.R., Berreman D.W., Sammon M., Meiboom S. Light crystal alignment on surfactant treated obliquely evaporated surfaces // Appl. Phys. Lett. 1980. V. 36. № 2. P. 144–146.