ITMO
en/ en

ISSN: 1023-5086

en/

ISSN: 1023-5086

Научно-технический

Оптический журнал

Полнотекстовый перевод журнала на английский язык издаётся Optica Publishing Group под названием “Journal of Optical Technology“

Подача статьи Подать статью
Больше информации Назад

DOI: 10.17586/1023-5086-2022-89-01-82-91

УДК: 535

Морфология монокристаллического кремния, облученного комбинацией миллисекундных и наносекундных лазерных импульсов при изменении времени задержки между ними

Ссылка для цитирования:

M. Guo, Y. X. Zhang, N. Li, Y. S. Feng, J. X. Cai, and G. Y. Jin Morphology of monocrystalline silicon irradiated by the combination of millisecond-nanosecond lasers with different delays (Морфология монокристаллического кремния, облученного комбинацией миллисекундных и наносекундных лазерных импульсов при изменении времени задержки между ними) [на англ. яз.] // Оптический журнал. 2022. Т. 89. № 1. С. 82–91. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2022-89-01-82-91

 

M. Guo, Y. X. Zhang, N. Li, Y. S. Feng, J. X. Cai, and G. Y. Jin Morphology of monocrystalline silicon irradiated by the combination of millisecond-nanosecond lasers with different delays (Морфология монокристаллического кремния, облученного комбинацией миллисекундных и наносекундных лазерных импульсов при изменении времени задержки между ними) [in English] // Opticheskii Zhurnal. 2022. V. 89. № 1. P. 82–91. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2022-89-01-82-91

Ссылка на англоязычную версию:

M. Guo, Y. X. Zhang, N. Li, Y. S. Feng, J. X. Cai, and G. Y. Jin, "Morphology of monocrystalline silicon irradiated by the combination of millisecond-nanosecond lasers with different delays," Journal of Optical Technology. 89(1), 58-65 (2022). https://doi.org/10.1364/JOT.89.000058

Аннотация:

Экспериментально исследована морфология монокристаллического кремния при облучении в комбинированном режиме миллисекунд–наносекунд. Во время эксперимента были использованы прецизионный точечный термометр для мониторинга, теневой метод измерения эволюции плазмы и металлографическая микроскопия для анализа состояния объекта после эксперимента. Изучены спайность и механизмы абляции монокристаллического кремния при различных плотностях лазерной энергии и изменения временного взаиморасположения импульсов. Анализ показывает, что морфология лазерных повреждений при воздействии наносекундных импульсов представлена в виде небольших ямок с аккуратными краями, в то время как под действием комбинированных лазерных импульсов возникают множественные повреждения в виде трещин, включая как регулярные сколы, так и области неправильных трещин. При комбинированном воздействии миллисекундный импульс осуществляет предварительный нагрев, в результате чего изменяются теплофизические свойства монокристаллического кремния, в частности, коэффициент поглощения.
При изменении времени задержки между миллисекундным и наносекундным импульсами можно варьировать энергетическое взаимодействие между кремнием и наносекундным импульсом, влияя тем самым на эффект повреждения. Полученные данные могут служить справочным материалом по устойчивости кремниевых материалов и устройств на основе кремния к лазерным повреждениям.

Ключевые слова:

комбинированный лазер, монокристаллический кремний, температура, морфология

Коды OCIS: 140.3330

Список источников:

1. Li Z., Wang X., Shen Z., et al. Mechanisms for the millisecond laser-induced functional damage to silicon charge-coupled imaging sensors // Appl. Opt. 2015. V. 54. № 3. P. 378–388.
2. Singh A.P., Kapoor A., Tripathi K.N., et al. Laser damage studies of silicon surfaces using ultra-short laser pulses // Optics & Laser Technol. 2002. V. 34. № 1. P. 37–43.
3. Xinyu-Tan, Duanming-Zhang, Boming-Yu, et al. Vaporization effect studying on high-power nanosecond pulsed laser deposition // Physica B. Condensed Matter. 2005. V. 358. № 1–4. P. 86–92.
4. Wang Y., Chen A., Wang Q., et al. Study of signal enhancement in collinear femtosecond-nanosecond doublepulse laser-induced breakdown spectroscopy // Optics & Laser Technol. 2020. № 122. P. 105887.
5. Kupfer R., Quevedo H.J., Smith H.L., et al. Plasma emission characteristics in laser-induced breakdown spectroscopy of silicon with mid-infrared, multi-millijoule, nanosecond laser pulses from a Ho:YLF excitation source // Appl. Opt. 2019. V. 58. № 17. P. 4592–4598.
6. Mahdieh M.H., Momeni A. From single pulse to double pulse ns laser ablation of silicon in water: Photoluminescence enhancement of silicon nanocrystals // Laser Phys. 2014. V. 25. № 1. P. 015901.
7. Momeni A., Mahdieh M.H. Double-pulse nanosecond laser ablation of silicon in water // Laser Phys. Lett. 2015. V. 12. № 7. P. 076102.
8. Zhang X., Lu J., Zhang H.C., et al. Laser-induced periodic surface structure in silicon wafer irradiated by continuous laser // Proc. SPIE. 2019. № 11046. P. 1104635.
9. Lehane C., Kwok H.S. Enhanced drilling using a dual-pulse Nd:YAG laser // Appl. Phys. A. 2001. V. 73. № 1. P. 45–48.
10. Jafarabadi M.A., Mahdieh M.H. Investigation of phase explosion in aluminum induced by nanosecond double pulse technique // Appl. Surface Sci. 2015. № 346. P. 263–269.
11. Lv X., Pan Y., Jia Z., et al. Surface damage induced by a combined millisecond and nanosecond laser // Appl. Opt. 2017. V. 56. № 17. P. 5060–5067.
12. Lv X., Pan Y., Jia Z., et al. Laser-induced damage threshold of silicon under combined millisecond and nanosecond laser irradiation // Appl. Phys. 2017. V. 121. № 11. P. 113102.