ITMO
en/ en

ISSN: 1023-5086

en/

ISSN: 1023-5086

Научно-технический

Оптический журнал

Полнотекстовый перевод журнала на английский язык издаётся Optica Publishing Group под названием “Journal of Optical Technology“

Подача статьи Подать статью
Больше информации Назад

Родионов А. Ю.

Кандидат физико-математических наук

Место работы
Центральный научно-исследовательский и опытно-конструкторский институт робототехники и технической кибернетики, Санкт-Петербург, Россия

Статьи

Грязнов Н.А., Родионов А.Ю., Горячкин Д.А., Купренюк В.И., Соснов Е.Н., Алексеев В.Л. Численное моделирование лазера с переключаемой добротностью резонатора для генерации ультракоротких импульсов // Оптический журнал. 2021. Т. 88. № 4. С. 3–11. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2021-88-04-03-11

 

N. A. Gryaznov, A. Yu. Rodionov, D. A. Goryachkin, V. I. Kuprenyuk, E. N. Sosnov, and V. L. Alekseev Numerical simulation of a laser with a Q-switched cavity for production of ultrashort pulses [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2021. V. 88. № 4. P. 3–11. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2021-88-04-03-11

Аннотация

Грязнов Н.А., Соснов Е.Н., Горячкин Д.А., Никитина В.М., Родионов А.Ю. Активная фазовая синхронизация мод в резонаторе с управляемым интерферометром Майкельсона // Оптический журнал. 2019. Т. 86. № 4. С. 3–10. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2019-86-04-03-10

 

Gryaznov N.A., Sosnov E.N., Goryachkin D.A., Nikitina V.M., Rodionov A.Yu. Active phase mode locking in a cavity with a controllable Michelson interferometer  [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2019. V. 86. № 4. P. 3–10. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2019-86-04-03-10

 

 

Аннотация

Сейсян Р.П., Беспалов В.Г., Жевлаков А.П., Макаров Е.А., Родионов А.Ю. Двухимпульсное биспектральное лазерное возбуждение и инициация плазмы в источнике экстремально-ультрафиолетового излучения для нанолитографии // Оптический журнал. 2017. Т. 84. № 11. С. 45–54.

 

Seysyan R.P., Bespalov V.G., Zhevlakov A.P., Makarov E.A., Rodionov A.Yu. Dual-pulse bispectral laser excitation and plasma initiation in an extreme-UV radiation source for nanolithography [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2017. V. 84. № 11. P. 45–54.

Аннотация