Оптический журнал. 2013. Т. 80. № 5.
Физическая оптика
Ващенко Е.В., Гладских И.А., Пржибельский С.Г., Хромов В.В., Вартанян Т.А.
Проводимость и фотопроводимость гранулированной пленки серебра на сапфировой подложкеШтумпф С.А., Козлов С.А., Королев А.А.
Динамика сильного поля светового импульса из малого числа колебаний в условиях возбуждения плазмы в диэлектрической средеРасчёт, проектирование и производство оптических систем и их элементов
Бахолдин А.В., Васильев В.Н., Гримм В.А., Романова Г.Э., Смирнов С.А.
Оптические устройства виртуальных дисплеевБахолдин А.В., Васильев В.Н., Гримм В.А., Романова Г.Э., Смирнов С.А.
Использование призменных элементов для построения плоских волноводных экрановБаёва Ю.В., Лаповок Е.В., Ханков С.И.
Аналитическая методика расчета тепловых потоков в околоземном пространстве, формирующих тепловой режим космических телескоповГуревич Э.С., Точицкий Я.И., Цуран В.И.
Оптическое приборостроение для микроэлектроникиЕвтихиев Н.Н., Краснов В.В., Стариков С.Н.
Метод генерации амплитудных масок с постоянными спектрами мощности и их использование для измерения двумерных модуляционных передаточных функций оптических системГолография
Евтихиев Н.Н., Стариков С.Н., Черёмхин П.А.
Оценка влияния динамического диапазона и шумов регистрирующих камер на качество цифровых голограммОптическое приборостроение и метрология
Демидов В.В., Дукельский К.В., Тер-Нерсесянц Е.В., Шевандин В.С.
Исследование одномодового режима работы микроструктурированных световодов с каналами вытекания излученияПавлов Н.И., Прилипко А.Я.
Быстрый обзор круговой зоны инфракрасной сканирующей системой с матричным фотоприемным устройствомВишняков Г.Н., Левин Г.Г., Минаев В.Л., Цельмина И.Ю.
Интерферометр фазового сдвига для контроля плоских и сферических оптических деталейОптическое материаловедение и технологии
Арбузов В.И., Фёдоров Ю.К., Крамарев С.И., Шашкин А.В.
Влияние технологических факторов на предельные характеристики неодимовых фосфатных стекол для крупногабаритных дисковых и стержневых активных элементовРодин С.А., Балабанов С.С., Гаврищук Е.М., Еремейкин О.Н.
Использование Tm:YLF лазера для определения коэффициента диффузии хрома в ZnSeTao Qing, Luo F., Zhang Jinxing, Mo Bingcheng, Zhong Rui, Miao Dandan, Pan Xiaoxing, Liang Qianliang
Analysis of fabrication tolerance based on uneven thickness of Su8-photo-resist