en
Назад
УДК: 776.19; 772.99; 535.317
Голографическая фотолитография на основе тонких пленок халькогенидного стеклообразного полупроводника
Полный текст «Оптического журнала»
Полный текст на elibrary.ru
Публикация в Journal of Optical Technology
Корешев С.Н., Белых А.В., Ратушный В.П. Голографическая фотолитография на основе тонких пленок халькогенидного стеклообразного полупроводника // Оптический журнал. 2007. Т. 74. № 7. С. 80–85.
Koreshev S.N., Belykh A.V., Ratushniy V.P. Holographic photolithography based on thin films of a glassy chalcogenide semiconductor [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2007. V. 74. № 7. P. 80–85.
S. N. Koreshev, A. V. Belykh, and V. P. Ratushnyĭ, "Holographic photolithography based on thin films of a glassy chalcogenide semiconductor," Journal of Optical Technology. 74 (7), 504-508 (2007). https://doi.org/10.1364/JOT.74.000504
Предложены и исследованы две возможные реализации технологии проекционной голографи ческой фотолитографии, базирующиеся на использовании отражательных рельефно-фазовых голограмм-проекторов, изготовленных на халькогенидной регистрирующей среде, и защитных масок из тонких пленок халькогенидного стеклообразного полупроводника (ХСП). Одна из них включает в себя использование защитной маски из химически проявляемого ХСП, являющегося, по своей сути, негативным неорганическим фоторезистом. Вторая - основана на использовании голограммы-проектора и двух последовательно располагаемых защитных масок, одна из которых выполняется из ХСП, последовательно проявляемого методами химического и ионного травления, а другая представляет собой пленку хрома, изменяющую свою структуру в процессе ионноплазменной обработки.
Коды OCIS: 090.0090, 110.3960
Список источников:1. Моро У. Микролитография. М.: Мир, 1990. 1240 с.
2. Ehbets P., Herzig H., Kuittinen M., Clube F., Darbellay Y. High-carrier-frequency fan-out gratings fabricated by total internal reflection holographic lithography // Opt. Eng. 1995. V. 34. № 8. P. 2377-2383.
3. Clube F., Gray S., Struchen D., Tisserand J., Malfoy S., Darbellay Y. Holographic microlithography // Opt. Eng. 1995. V. 34. № 9. P. 2724-2730.
4. Корешев С.Н., Ратушный В.П. Использование метода голографии для получения изображений двумерных объектов при решении задач фотолитографии высокого разрешения // Оптический журнал. 2004. Т. 71. № 10. С. 32-39.
5. Корешев С.Н., Ратушный В.П. Голограммы сфокусированного изображения в задаче высокоразрешающей проекционной голографической фотолитографии // Опт. и спектр. 2006. Т. 101. № 6. С. 1038-1042.
6. Stetson K.A. Holography with total internally reflected light // Appl. Phys. Lett. 1967. V. 11. P. 225.
7. Jusupov I.J., Mikhailov M.D. Investigation of the arsenic sulphide films for relief-phase holograms // Proc. SPIE. 1989. V. 1238. P. 240-247.
8. Teteris J., Reinfelde M. Application of amorphous chalcogenide semiconductor thin films in optical recording technologies // Journal of Optoelectronics and Advanced Materials. 2003. V. 5. № 5. P. 1355-1360.
9. Корешев С.Н., Ратушный В.П. Основы технологии голографической субмикронной фотолитографии // Научно-технич. вестн. СПб ГУ ИТМО. 2005. В. 23. С. 34-42.
10. Nagashima K., Longsen L. Reconstruction of Fresnel holograms using photoresist emulsion // Atti Della Fonduzione Giorgio Ronchi. 2003. Anno LVIII. № 2. P. 229-233.
11. Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986. 232 c.
12. Сопинский Н.В., Романенко П.Ф., Индутный И.З. Использование эффекта взаимодействия пленок серебра и триселенида мышьяка для профилирования голограммных дифракционных решеток // ЖТФ. 2001. Т. 71. В. 2. С. 71-76.
13. Berger V., Gauthier-Lafaye O., Costard E. Fabrication of a 2D photonics band gap by a holographic method // Electronics letters. 1997. V. 33. № 5. P. 425-426.