Области применения вакуумных ультрафиолетовых эксиламп (обзор)

1. Бойченко А.М., Тарасенко В.Ф., Фомин Е.А., Яковленко С.И. Широкополосные континуумы в инертных газах и их смесях с галогенидами // Квант. электрон. 1993. Т. 20. № 1. С. 7–30.

2. Oppenländer T. Novel incoherent excimer UV irradiation units for the application in photochemistry, photobiology, photomedicine and for waste water treatment // Eur. Photochem. Assoc. Newsletter. 1994. V. 50. P. 2–8.
3. Бойченко А.М., Ломаев М.И., Панченко А.Н., Соснин Э.А., Тарасенко В.Ф. Ультрафиолетовые и вакуумноультрафиолетовые эксилампы: физика, техника и применения. Томск: STT, 2001. 512 с.
4. Смирнов Б.М. Эксимерные молекулы // УФН. 1983. Т. 39. № 1. С. 53–81.
5. Герасимов Г.Н., Крылов Б.Е., Логинов А.В., Щукин С.А. Ультрафиолетовое излучение возбужденных молекул инертных газов // УФН. 1992. Т. 162. № 5. С. 123–159.
6. Мак-Каскер М. Эксимеры инертных газов // В кн. Эксимерные лазеры / Под ред. Роудза Ч. М.: Мир, 1981. С. 70–117.
7. LINEX® – Linear Excimer LAMP System (123 D05 E 05/03 Co) // http://osram.com/_global/pdf/Professional/Display_Optic/Display_Systems/123D005GB_PI_LINEX.pdf.
8. PLANON® // Product Information Bulletin. FO135R3.
9. Немодрук А.А., Безрогова Е.В. Фотохимические реакции в неорганической химии. М.: Химия, 1972. 167 с.
10. Wieser J., Murnick D.E., Ulrich A., Huggins H.A., Liddle A., Brown W.L. Vacuum ultraviolet rare gas excimer light source // Review of Scientific Instruments. 1997. V. 68. Iss. 3. P. 1360–1364.
11. Mühlberger F., Wieser J., Ulrich A., Zimmermann R. Single photon ionization mass spectrometry with a novel electron-pumped excimer lamp for detection of trace compounds from thermal processes // Organohalogen Compounds. 2004. V. 66. P. 795–799.
12. Wasamotoa M., Kattob M., Kakua M., Kuboderaa S., Yokotania A. Mass spectrometric study of photo dissociation of organic molecules by vacuum-ultraviolet irradiation for development of analysis technique // Appl. Surf. Sci. 2009. V. 255. P. 9861–9863.
13. Соснин Э.А., Захарова Э.А., Баталова В.Н. Применение эксиламп в аналитической химии (обзор) //  Заводская лаборатория. 2005. Т. 71. № 8. С. 18–24.
14. Griechetschkina M.V., Zaitsev N.K., Braun A.M. VUV-photolysis oxidative degradation of organics inhibiting the inverse-voltammetric determination of heavy metals. 1. Humic substances // Toxicol. Environ. Chem. 1996. V. 53. P. 143–151.
15. Sheremet A., Averyaskina E., Chekmeneva E., Ermakov S. Standardless electrochemical method for mercury, cadmium, lead and copper determination in aqueous solution // Electroanalysis. 2007. V. 19. Iss. 21. P. 2222–2226.
16. Murahara M., Ogawa Y., Yoshida K., Okamato Y. Photochemical laminating of low refractive index transparent antireflective SiO2 film // Proc. SPIE. 2003. V. 4932. P. 48–54.
17. Asano K., Murahara M. Photochemical bonding of fluorocarbon and fused silica glass for ultraviolet ray transmitting // MRS Proc. 2003. V. 796. V3.7 (6 pages).
18. Murahara M., Sato N., Funatsu T., Okamoto Y. Water-resistant hard coating on optical material by photooxidation of silicone oil // Proc. SPIE. 2005. V. 5991. Р. 599118.
19. Baum G., Oppenländer T. VUV-oxidation of chloroorganic compounds in an excimer flow through photoreactor // Chemosphere. 1995. V. 30. № 9. P. 1781–1790.
20. Oppenländer T. Photochemical purification of water and air. Weincheim: Wiley-Vch Verlag, 2003. 368 p.
21. Gonzalez M.G., Oliveros E., Wörner M., Braun A.M. Vacuum-ultraviolet photolysis of aqueuous reaction systems // J. Photochem. Photobiol. C: Photochem. Rev. 2004. V. 5. P. 225–246.
22. Oppenländer T., Fradl M. TOC destruction of a phenol/water azeotrope by “Photoreactive distillation” through an incoherent vacuum-UV excimer lamp // Chem. Eng. Technol. 1999. V. 22. № 11. P. 951–954.
23. Oppenländer T., Walddörfer C., Burgbacher J., Kiermeier M., Lachner K., Weinschrott H. Improved vacuumUV (VUV) photomineralization of organic compounds in water photoreactor (Xe*₂ lamp, 172 nm) containing an axially centred ceramic oxygenator // Chemosphere. 2005. V. 60. P. 302–309.
24. Соснин Э.А., Ерофеев М.В., Тарасенко В.Ф. Фотоминерализация метанола в Xe₂-фотореакторе ( λ ~ 172 нм) с аэрированием раствора // Известия вузов. Физика. 2006. № 10. С. 95–97.
25. Соснин Э.А., Ерофеев М.В. Осушка природного газа и фотолиз метанола в проточных фотореакторах на основе Xe₂- и KrCl-эксиламп // Мат. 3-й школы-семинара молодых ученых России (8–12 июня 2004 г.). Улан-Удэ: Изд-во БНЦ СО РАН, 2004. С. 247–248.
26. Ахмедов А.Ю., Ерофеев В.И., Ерофеев М.В., Истомин В.А., Коровин С.Д., Медведев Ю.В., Полыгалов Ю.И., Орловский В.М., Сергеев О.А., Соснин Э.А, Степанов В.П., Тарасенко В.Ф. Способ осушки природногогаза, проточный реактор для осушки природного газа // Патент RU 2284850. Приоритет 09.03.2006. Рег. № заявки 2005106634/15 от 09.03.2005. Опубл. 10.10.2006. Бюл. № 28.
27. Медведев Ю.В., Иванов В.Г., Середа Н.И., Полыгалов Ю.И., Ерофеев В.И., Коровин С.Д., Ерофеев М.В.,  Соснин Э.А., Суслов А.И., Тарасенко В.Ф., Истомин В.А. Воздействие мощного ультрафиолетового излучения на поток природного газа в проточном фотореакторе // Наука и техника в газовой промышленности. 2004. № 3. С. 83–87.
28. Oppenländer Т., Baum G. Wasseraufbereitung mit Vakuum-UV/UV–Excimer–Durchflussphotoreaktoren // Wasser-Abwasser. 1996. В. 137. № 6. S. 321–325.
29. Waizenengger K., Oppenlaender T. Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excinmer-Strahler zur Durchfuhrung eines solchen Verfahrens // Offenlegungsschrift DE 195 07 189. Anmeldtag: 02.03.1995. Offenlegunstag: 12.09.1996.
30. Pa P.S. Optical assistance in thin film microelectro-removal for touch-panel displays // Journal of Electroanalytical Chemistry. 2011. V. 651. P. 38–45.
31. Esrom H., Kogelschatz U. Modification of surfaces with new excimer UV Sources // Thin Solid Films. 1992. V. 218. P. 231–246.
32. Sato Y., Sato N., Shimizu K., Sasou M., Parel J.-M., Murahara M. Photochemical surface modification method for fibrin free intraocular lens // Proc. SPIE. 2005. V. 5688. P. 260–267.
33. Heitz J., Olbrich M., Moritz S., Romamin C., Svorcik V., Bäuerle D. Surface modification of polymers by UV-irradiation: applications in micro- and biotechnology // Proc. SPIE. 2005. V. 5958. P. 5958U1–U6.
34. Zhang J.Y., Boyd I.W. Rapid photo-oxidation of silicon at room temperature using 126 nm vacuum ultraviolet radiation // Appl. Surf. Sci. 2002. V. 186. P. 64–68.
35. Kogelschatz U. Silent-discharge driven excimer UV sources and their applications // Appl. Surf. Sci. 1992. V. 54. P. 410–423.
36. Boyd I.W. Dielectric photoformation of Si and SiGe / Advances in rapid thermal and integrated Proc. Dordrecht: Kluwer Publ., 1996. P. 235–264.
37. Cracium V., Boyd I.W., Hutton B., Williams D. Characteristics of dielectric layers grown on Ge by low temperature vacuum ultraviolet-assisted oxidation // Appl. Phys. Lett. 1999. V. 75. P. 1261–1263.
38. Periyasamy S., Gupta Deepti, Gulrajani M. L. Nanoscale surface roughening of mulberry silk by monochromatic VUV excimer lamp // Journal of Applied Polymer Science. 2007. V. 103. P. 4102–4106.
39. Esrom H., Kogelschatz U. Modification of surfaces with new excimer UV sources // Thin Solid Films. 1992. V. 218. P. 231–246.
40. Kessler F., Mohring H.-D., Bauer G.H. VUV excimer light source for deposition of amorphous semiconductors // Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1990. V. 192. P. 559565.
41. Zhang J.Y., Bie L.J., Boyd I.W. Thin tantalum oxide films prepared by 172 nm excimer lamp irradiation using sol-gel method // Thin Solid Films. 1998. V. 318. P. 252256.
42. Kaliwoh N., Zhang J.Y., Boyd I.W. Titanium dioxide films prepared by photoinduced sol-gel processing using 172 nm excimer lamps // Surf. Coat. Thechnol. 2000. V. 125. P. 424–427.
43. Miller S.L. Production of some organic compounds under the possible primitive earth condition // J. Am. Chem. Soc. 1955. V. 77. P. 2351–2361.
44. Terasaki М., Nomoto S., Mita H., Shimoyama A. A new pathway to aspartic acid from maleic acid affected by ultraviolet light // Origins of Life and Evolution of the Biosphere. 2002. V. 32. P. 91–98.
45. Pelizzetti E., Calza P., Mariella V., Maurino V., Minero C., Hidaka H. Different photocatalytic fate of amido nitrogen in formamide and urea // J. Chem. Soc. Chem. Comm. 2004. V. 13. P. 1504–1505.
46. Shaber P.M., Colson J., Higgins S., Dietz E., Thieilen D., Brauer J. Study of the urea thermal decomposition (pyrolysis) reaction and importance to cyanuric acid production // American Laboratory. 1999. № 9. P. 13–21.
47. Navarro-Gonzalez R., Negron-Mendoza A., Chacon E. The γ-irradiation of aqueous solutions of urea // Origins of life and evolution of biosphere. 1989. V. 19. P. 109–118.
48. Соснин Э.А., Гросс А., Бартник Н., Оппенлэндер Т., Васильева Н.Ю. Изучение фотодеградации карбамида в проточных фотореакторах на основе УФ и ВУФ эксиламп // Фундаментальные проблемы новых технологий в 3-м тысячелетии: Мат. 3-й Всерос. Конф. молодых ученых. Томск: Изд-во Института оптики атмосферы СО РАН, 2006. C. 169–172.