ITMO
ru/ ru

ISSN: 1023-5086

ru/

ISSN: 1023-5086

Scientific and technical

Opticheskii Zhurnal

A full-text English translation of the journal is published by Optica Publishing Group under the title “Journal of Optical Technology”

Article submission Подать статью
Больше информации Back

Rodionov, A. Yu.

PhD (Physics and Mathematics)

Affiliation
Central Research and Development Institute of Robotics and Engineering Cybernetics, Saint-Petersburg, Russia

Articles

Грязнов Н.А., Родионов А.Ю., Горячкин Д.А., Купренюк В.И., Соснов Е.Н., Алексеев В.Л. Численное моделирование лазера с переключаемой добротностью резонатора для генерации ультракоротких импульсов // Оптический журнал. 2021. Т. 88. № 4. С. 3–11. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2021-88-04-03-11

 

N. A. Gryaznov, A. Yu. Rodionov, D. A. Goryachkin, V. I. Kuprenyuk, E. N. Sosnov, and V. L. Alekseev Numerical simulation of a laser with a Q-switched cavity for production of ultrashort pulses [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2021. V. 88. № 4. P. 3–11. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2021-88-04-03-11

Abstract

Грязнов Н.А., Соснов Е.Н., Горячкин Д.А., Никитина В.М., Родионов А.Ю. Активная фазовая синхронизация мод в резонаторе с управляемым интерферометром Майкельсона // Оптический журнал. 2019. Т. 86. № 4. С. 3–10. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2019-86-04-03-10

 

Gryaznov N.A., Sosnov E.N., Goryachkin D.A., Nikitina V.M., Rodionov A.Yu. Active phase mode locking in a cavity with a controllable Michelson interferometer  [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2019. V. 86. № 4. P. 3–10. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2019-86-04-03-10

 

 

Abstract

Сейсян Р.П., Беспалов В.Г., Жевлаков А.П., Макаров Е.А., Родионов А.Ю. Двухимпульсное биспектральное лазерное возбуждение и инициация плазмы в источнике экстремально-ультрафиолетового излучения для нанолитографии // Оптический журнал. 2017. Т. 84. № 11. С. 45–54.

 

Seysyan R.P., Bespalov V.G., Zhevlakov A.P., Makarov E.A., Rodionov A.Yu. Dual-pulse bispectral laser excitation and plasma initiation in an extreme-UV radiation source for nanolithography [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2017. V. 84. № 11. P. 45–54.

Abstract