ITMO
en/ en

ISSN: 1023-5086

en/

ISSN: 1023-5086

Научно-технический

Оптический журнал

Полнотекстовый перевод журнала на английский язык издаётся Optica Publishing Group под названием “Journal of Optical Technology“

Подача статьи Подать статью
Больше информации Назад

УДК: 535.417, 535.317, 778.38

Выбор параметров синтеза голограмм-проекторов для фотолитографии

Ссылка для цитирования:

Корешев С.Н., Никаноров О.В., Козулин И.А. Выбор параметров синтеза голограмм-проекторов для фотолитографии // Оптический журнал. 2008. Т. 75. № 9. С. 29–34.

 

Koreshev S.N., Nikanorov O.V., Kozulin I.A. Choosing the synthesis parameters of hologram-projectors for photolithography [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2008. V. 75. № 9. P. 29–34.

Ссылка на англоязычную версию:

S. N. Koreshev, O. V. Nikanorov, and I. A. Kozulin, "Choosing the synthesis parameters of hologram-projectors for photolithography," Journal of Optical Technology. 75 (9), 558-562 (2008). https://doi.org/10.1364/JOT.75.000558

Аннотация:

Рассмотрены особенности синтеза голограмм-проекторов, предназначаемых для использования в голографическом варианте фотолитографического процесса. Основное внимание уделено влиянию дискретизации объекта и голограммы на структуру восстанавливаемого изображения. Сформулированы и обоснованы требования, предъявляемые к параметрам расчета и отображения синтезированных голограмм. Установлено, что дискретизация синтезированных голограмм приводит не только к появлению дополнительных восстанавливаемых изображений, но и к ограничению минимального размера элементов восстанавливаемых изображений величиной 1,5λ.

Коды OCIS: 090.1760

Список источников:

1. Корешев С.Н., Ратушный В.П. Использование метода голографии для получения изображений двумерных объектов при решении задач фотолитографии высокого разрешения // Оптический журнал. 2004. Т. 71. № 10. С. 32-39.

2. Koreshev S.N., Ratushnyi V.P. Holographic method for obtaining images with limiting high resolution for extreme shot-wave lithography problems // Proc. SPIE. 2004. V. 5290. P. 221-232.

3. Clube F., Gray S., Struchen D., Tisserand J., Malfoy S., Darbellay Y. Holographic microlithography // Opt. Eng. 1995. V. 34. № 9. P. 2724-2730.

4. Корешев С.Н., Ратушный В.П. Голограммы сфокусированного изображения в задаче высокоразрешающей проекционной голографической фотолитографии // Опт. и спектр. 2006. Т. 101. № 6. С. 1038-1042.

5. Jacobsen C., Howells M. Projection x-ray lithography using computer-generated holograms: A study of compatibility with proximity lithography // J. Appl. Phys. 1992. V. 71. P. 2993-3001.

6. Naullenau P.P., Salmassi F., Cullikson E.M., Liddle J.A. Design and fabrication of a high-efficiency extreme-ultraviolet binary phase-only computer-generated hologram // Appl. Opt. 2007. V. 46. № 14. P. 2581-2585.

7. Кольер Р., Беркхард К., Лин Л. Оптическая голография. М.: Мир, 1973. 686 с.

8. Семенов Г.Б., Корешев С.Н. Дифракционная эффективность и некоторые особенности спектров дискретных амплитудных бинарных голограмм // Опт. и спектр. 1976. Т. 41. № 2. С. 310-314.

9. Гудмен Дж. Введение в фурье-оптику. М.: Мир, 1970. 364 с.