ITMO
en/ en

ISSN: 1023-5086

en/

ISSN: 1023-5086

Научно-технический

Оптический журнал

Полнотекстовый перевод журнала на английский язык издаётся Optica Publishing Group (ранее OSA) под названием “Journal of Optical Technology“

Подача статьи Подать статью
Больше информации Назад

Способ формирования зрачка для внеосевого освещения в оптической литографии

Ссылка для цитирования:

Ming Chen, Fang Zhang, Aijun Zeng, Jing Zhu, Baoxi Yang, and Huijie Huang Method of pupil shaping for off-axis illumination in optical lithography (Способ формирования зрачка для внеосевого освещения в оптической литографии) [на англ. яз.] // Оптический журнал. 2016. Т. 83. № 3. С. 20–26.

 

Ming Chen, Fang Zhang, Aijun Zeng, Jing Zhu, Baoxi Yang, and Huijie Huang Method of pupil shaping for off-axis illumination in optical lithography (Способ формирования зрачка для внеосевого освещения в оптической литографии) [in English] // Opticheskii Zhurnal. 2016. V. 83. № 3. P. 20–26.

Ссылка на англоязычную версию:

Ming Chen, Fang Zhang, Aijun Zeng, Jing Zhu, Baoxi Yang, and Huijie Huang, "Method of pupil shaping for off-axis illumination in optical lithography," Journal of Optical Technology. 83(3), 154-158 (2016). https://doi.org/10.1364/JOT.83.000154

Аннотация:

Внеосевое освещение фотошаблона – один из ключевых способов повышения разрешающей способности проекционной системы. Для его осуществления в большинстве конструкций литографов используются фазовые дифракционные оптические элементы. В работе предложен метод формирования выходного зрачка осветительной системы внеосевого освещения фотошаблона, основанный на использовании расширителя пучка, двух аксиконов, осевого дифракционного оптического элемента и фурье-объектива. Метод обеспечивает исключение осевого освещения фотошаблона при относительной простоте конструкции осветительной системы. Приведены результаты расчета структуры дифракционных оптических элементов, обеспечивающих различные условия внеосевого освещения фотошаблона.

Ключевые слова:

оптическая литография, внеосевое освещение, аксикон, дифракционный оптический элемент, фурье-объектив

Коды OCIS: 110.5220, 090.1970, 220.4830

Список источников:

1. Himel M.D., Hutchins R.E., Colvin J.C., Poutous M.K., Kathman A.D., and Fedor A.S. Design and fabrication of customized illumination patterns for low k1 lithography: A diffractive approach // Proc. SPIE. 2001. V. 4691. P. 1436–1442.
2. Levinson H.J. Principles of lithography. Bellingham, Washington, USA: SPIE Press, 2005. 524 p.
3. Qiaofeng T., Yingbai Y., and Cuofan J. Statistic analysis of influence of phase distortion on diffractive optical element for beam smoothing // Opt. Exp. 2004. V. 12. № 14. P. 3270–3278.
4. Tan L.Y., Yu J.J., Ma J., Yang Y.Q., Li M., Jiang Y.J., Liu J.F., and Han Q.Q. Approach to improve beam quality of inter-satellite optical communication system based on diffractive optical elements // Opt. Exp. 2009. V. 17. № 8. P. 6311–6319.
5. Caley A.J., Thomson M.J., Liu J.S., Waddie A.J., and Taghizadeh M.R. Diffractive optical elements for high gain lasers with arbitrary output beam profiles // Opt. Exp. 2007. V. 15. № 17. P. 10699–10704.
6. Takahashi K. Illumination system for superposing light beams one upon another on a surface using a projecting system having different focal point positions // U.S. patent 5719617. 1998.
7. CARL ZEISS SMT GMBH. Filter device for the compensation of an asymmetric pupil illumination // U.S. patent 8636386. 2014.
8. NIKON CORPORATION. Illumination optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, compensation filter, and exposure optical system // U.S. patent 8908151. 2014.

9. Wei L., Li Y., Liu L. Detailed illuminator design for full field ArF lithography system with a method based on the fly’s eye // Proc. SPIE. 2012. V. 8550. P. 855032-1–855032-11.
10. Zhang F., Zhu J., Yue W., Wang J., Song Q., Situ G., Wyrowski F., and Huang H. An approach to increase efficiency of DOE based pupil shaping technique for off-axis illumination in optical lithography // Opt. Exp. 2015. V. 23. № 4. P. 4482–4493.
11. Hu Z., Zhu J., Yang B., Xiao Y., Zeng A., and Huang H. Test of diffractive optical element for DUV lithography system using visible laser // Proc. SPIE. 2012. V. 8557. P. 855709.
12. Childers J.E., Baker T., Emig T., Carriere J., and Himel M.D. Advanced testing requirements of diffractive optical elements for off-axis illumination in photolithography // Proc. SPIE. 2009. V. 7430. P. 74300S.
13. Welch K., Fedor A., Felder D., Childers J., and Emig T. Improvements to optical performance in diffractive elements used for off-axis illumination // Proc. SPIE. 2009. V. 7430. P. 743005.
14. Gerchberg R.W. and Saxton W.O. A practical algorithm for the determination of phase from image and diffraction plane pictures // Optik. 1972. V. 2. № 35. P. 237–246.
15. Kirkpatrick S., Gelatt C.D., and Vecchi M.P. Optimization by simulated annealing // Science. 1983. V. 220. № 4598. P. 671–680.
16. Yoshikawa N., Itoh M., and Yatagai T. Quantized phase optimization of two-dimensional Fourier kinoforms by a genetic algorithm // Opt. Lett. 1995. V. 20. № 7. P. 752–754.