Эллипсометрический метод измерения параметров тонких магнитных пленок

Бакрадзе О.И. Эллипсометрический метод измерения параметров тонких магнитных пленок // Оптический журнал. 2005. Т.72. №2 С. 73-74.

Bakradze O. I. An ellipsometric method for measuring the parameters of thin magnetic films [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2005. V. 72. No 2. P. 73-74.

Bakradze O. I. An ellipsometric method for measuring the parameters of thin magnetic films // Journal of Optical Technology. 2005. V. 72. № 2. P. 225-226. https://doi.org/10.1364/JOT.72.000225

Рассмотрен эллипсометрический метод измерения оптических констант и магнитооптического параметра тонких магнитных пленок в одном эксперименте при постоянном угле падения света. Показано влияние оптической и магнитооптической интерференции на изменение эллипсометрических углов. Проведен анализ экваториального эффекта Керра в тонких магнитных пленках.