УДК: 681.7.031
Экспозиционные зависимости фотостимулированного распада радиационных центров окраски в стеклах
Полный текст «Оптического журнала»
Полный текст на elibrary.ru
Публикация в Journal of Optical Technology
Бедрин А.Г., Докучаев В.Г., Лаврентюк С.В. Экспозиционные зависимости фотостимулированного распада радиационных центров окраски в стеклах // Оптический журнал. 2008. Т. 75. № 12. С. 66–72.
Bedrin A.G., Dokuchaev V.G., Lavrentyuk S.V. Exposure dependences of photostimulated decay of radiation color centers in glasses [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2008. V. 75. № 12. P. 66–72.
A. G. Berdin, V. G. Dokuchaev, and S. V. Lavrentyuk, "Exposure dependences of photostimulated decay of radiation color centers in glasses," Journal of Optical Technology. 75 (12), 813-818 (2008). https://doi.org/10.1364/JOT.75.000813
Исследованы пространственные распределения поглощения радиационных центров окраски, образующиеся в протяженных образцах стекол в результате последовательного действия на них направленных потоков гамма- и оптического излучений. Разработана экспериментальная методика, позволяющая определять экспозиционные зависимости поглощения центров окраски, распадающихся под действием света, и связь параметров этих зависимостей со значениями дозы гамма-излучения. Показано, что по сравнению с традиционно используемыми вновь разработанная методика позволяет существенно сократить количество облучений образцов и повысить точность и детальность получаемых результатов. Полученные в работе новые экспериментальные возможности использованы для исследования свинцово-силикатного стекла ТФ5.
Коды OCIS: 160.2220, 160.2750, 300.1030
Список источников:1. Бедрин А.Г., Докучаев В.Г. Фотостимулированное восстановление светопропускания крупногабаритных окон "горячих" камер // Сб. тр. V Междунар. конф. "Прикладная оптика". СПб, 2002. Т. 2. С. 14.
2. Бреховских С.М., Тюльнин В.А. Радиационные центры в неорганических стеклах. М.: Энергоатомиздат, 1988. 187 с.
3. Боргман В.А. Кинетика фотостимулированной рекомбинации дырочных центров окраски в силикатных стеклах // Физ. и хим. стекла. 2006. Т. 32. № 3. С. 386-394.
4. Wang R.P., Saito K., Ikushima A.J. Photo-bleaching of selftrapped holes in SiO2 glass // J. Non-Cryst. Solids. 2005. V. 351. Issues 19-20. P. 1569-1572.
5. Бедрин А.Г., Горбунов Е.К., Докучаев В.Г., Еперин П.А., Лаврентюк С.В. Определение кинетических и дозовых параметров функций пострадиационной релаксации поглощения в стеклах // Оптический журнал, 2006. Т. 73. № 1. С. 77-82.
6. Бедрин А.Г., Докучаев В.Г., Лаврентюк С.В. Кинетика фотостимулированного распада радиационных центров окраски в оптических стеклах // Сб. Тр. VI Меж-дунар. конф. "Прикладная оптика". СПб., 2004. Т. 2. С. 27-31.
7. Hudson D.J. Statistics. Geneva. 1964. Перевод: Хадсон Д. Статистика для физиков. М.: Мир, 1967. 242 с.
en