УДК: 53.088.23

Характеризация профилограмм кусочно-непрерывного дифракционного микрорельефа

Полный текст на elibrary.ru

Публикация в Journal of Optical Technology

Ссылка для цитирования:

Корольков В.П., Остапенко С.В. Характеризация профилограмм кусочно-непрерывного дифракционного микрорельефа // Оптический журнал. 2009. Т. 76. № 7. С. 34–41.

Korolkov V.P., Ostapenko S.V. Characterization of profilograms of piecewise-continuous diffraction microrelief [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2009. V. 76. № 7. P. 34–41.

Ссылка на англоязычную версию:

V.P. Korolkov and S.V. Ostapenko, "Characterization of profilograms of piecewise-continuous diffraction microrelief," Journal of Optical Technology. 76 (7), 402-407 (2009). https://doi.org/10.1364/JOT.76.000402

Аннотация:

Вопросы профилометрического анализа кусочно-непрерывного микрорельефа высокоэффективных дифракционных элементов практически не рассматривались в литературе, несмотря на то что рынок дифракционной оптики существенно вырос в последнее время, и высокоэффективные дифракционные элементы перешли из разряда экзотики в обычную практику оптического приборостроения. В данной работе авторы рассматривают несколько методик оценки микрорельефа, которые позволяют вычислить “аппроксимированную глубину”, практически не зависящую от типа используемого профилометра. Предложенные методики основаны на полиномиальной аппроксимации профиля дифракционной зоны с минимизацией влияния ненадежных данных вблизи ее границ.

Ключевые слова:

профилограмма, микрорельеф, профиль дифракционной зоны, дифракционные оптические элементы

Благодарность:

Работа выполнена при поддержке Междисциплинарного проекта № 15 Сибирского отделения Российской академии наук.

Коды OCIS: 120.6650 120.2830 120.3930 120.4290 120.4630

Список источников:

1. Gale M.T., Lang G.K., Raynor J.M., Schu..tz H., Prongue′ D. Fabrication of kinoform structures for optical computing // Appl. Opt. 1992. V. 31. № 3. P. 5712–5715.
2. Korolkov V.P., Nasyrov R.K., Shimansky R.V. Zoneboundary optimization for direct laser writing of continuous-relief diffractive optical elements // Appl. Opt. 2006. V. 45. № 1. P. 53–62.
3. Korolkov V.P., Malyshev A.I., Nikitin V.G., Cherkashin V.V., Poleshchuk A.G., Kharissov A.A. Application of gray-scale LDW-glass masks for fabrication of high-efficiency DOEs // Proc. SPIE. 1999. V. 3633. P. 129–138.
4. Kley E.B. Continuous profile writing by electron and optical lithography // Microelectronic Engineering. 1997. V. 34. № 3. P. 261–298.
5. Blough C.G., Rossi M., Mack S.K., Michaels R.L. Single-point diamond turning and replication of visible and near-infrared diffractive optical elements // Appl. Opt. 1997. V. 36. № 20. P. 4648–4654.
6. Content D.A. Diffraction grating groove analysis used to predict efficiency and scatter performance // Conference “Gradient Index, Miniature, and Diffractive Optical Systems”. Ed. by Kathman Alan D. / Proc. SPIE. 1999. V. 3778. P. 19–30.
7. Fujita T., Nishihara N., Koyama J. Blazed gratings and Fresnel lenses fabricated by electron-beam lithography //Opt. Lett. 1982. V. 7. № 12. P. 578–580.
8. Golub M.A. Optical performance evaluation from microrelief profile scans of diffractive optical elements // OSA Conference Technical Digest “Diffractive Optics and Micro-Optics”. Que′bec City, Canada, 2000. P. 110–112.