ITMO
en/ en

ISSN: 1023-5086

en/

ISSN: 1023-5086

Научно-технический

Оптический журнал

Полнотекстовый перевод журнала на английский язык издаётся Optica Publishing Group под названием “Journal of Optical Technology“

Подача статьи Подать статью
Больше информации Назад

УДК: 621.38

Новый метод формирования литографической маски или рельефа непосредственно в процессе электронно-лучевого экспонирования резиста

Брук M.A., Жихарев Е.Н., Кальнов В.А., Спирин А.В., Стрельцов Д.Р.

Полный текст «Оптического журнала»

Полный текст на elibrary.ru

Публикация в Journal of Optical Technology

Аннотация:

Предложен новый “сухой” метод формирования рисунка маски или любого другого рельефа в некоторых позитивных резистах путем прямого травления резиста непосредственно в процессе экспонирования электронным лучом. Метод весьма эффективен при формировании пространственных 3D структур и, по-видимому, может быть успешно использован в оптоэлектронике.

Ключевые слова:

оптоэлектроника, электронная литография, сухое травление резиста, 3d структуры

Список источников:
1. Брук М.А., Кондратьева М.В., Баранов А.А., Пебалк К.В., Сергеев А.М., Козлова Н.В. Радиационная деполимеризация полиметилметакрилата, адсорбированного на силохроме // Высокомолек. соед. 1999. Т. 41А. № 2. С. 256–262. 2. Murali R. Metrology for Grayscale Lithography // AIP Conf. Proc. 2007. V. 931. P. 419–422. 3. Schleunitz A., Schift H. Fabrication of 3-D Pattern with Vertical and Sloped Sidewalls by Grayscale ElectronBeam Lithography and Thermal Annealing // Microelectron. Eng. 2011. V. 88. № 8. P. 2736–2739.