en
Назад
УДК: 621.3.049.77.002:776
Контроль перемещений подвижных линз в проекционном объективе фотолитографической установки для производства сверхбольших интегральных схем
Полный текст «Оптического журнала»
Полный текст на elibrary.ru
Публикация в Journal of Optical Technology
Бельский А.Б., Анчуткин В.С., Урвачев С.А. Контроль перемещений подвижных линз в проекционном объективе фотолитографической установки для производства сверхбольших интегральных схем // Оптический журнал. 2007. Т. 74. № 2. С. 49–56.
Belskiy A.B., Anchutkin V.S., Urvachev S.A. Monitoring the displacements of movable lenses in the projection objective of a photolithographic system for producing superlarge integrated microcircuits [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2007. V. 74. № 2. P. 49–56.
A. B. Bel’skii, V. S. Anchutkin, and S. A. Urvachev, "Monitoring the displacements of movable lenses in the projection objective of a photolithographic system for producing superlarge integrated microcircuits," Journal of Optical Technology. 74 (2), 115-121 (2007). https://doi.org/10.1364/JOT.74.000115
Приведено описание интегрированных в конструкцию емкостных датчиков, обеспечивающих измерение смещения и углов наклона подвижной оправы линзового модуля системы компенсации изменений масштаба изображения, обусловленных термобарической расстраиваемостью фотолитографического проекционного объектива. Представлены методика выбора оптимальных конструктивных параметров емкостных датчиков, алгоритм расчета смещения и углов наклона по измеренным значениям электрической емкости датчиков и оценочный расчет погрешности измерения для различных диапазонов перемещения.
Коды OCIS: 110.3960
Список источников:1. Mulkens J. et al. Immersion Lithography exposure systems: today's capabilities and tomorrow's expectations // Proc. SPIE. Vol. 5754. 2005. P. 710.
2. Greville A. Prospects for Immersion Lithography at the 45 nm Half-Pitch and Beyond // SEMATECH Future Fab Intl. 2006. Vol. 20.
3. Hand A. Hyper-NA Immersion Faces Polarization Challenges // Semiconductor International. 2006. February. 30 c.
4. Fisher J. The Top Five Motion Application Mistakes… and How to Avoid Making Them // Photonics Spectra. 2005. N 10. P. 94-98.
5. Moioni K. Ensuring nanopositioner accuracy requires sensor monitoring and careful x-y stage design // SPIE's OE MAGAZINE. 2002. N 6. P. 40.
6. Дворяшин Б.В., Кузнецов Л.И. Радиотехнич. измер. // Уч. пос. для вузов. М.: Сов. радио, 1978. 360 c.
7. Егоров А.И. Основы теории управления. М.: ИФ Физ.-мат. лит., 2004. 504 с.
8. Маркин Н.С. Основы теории обработки результатов измерений. М.: Изд-во стандартов, 1991. 173 с.
9. Haykin S. Kalman Filtering and Neural Networks // Communications Research Laboratory, McMaster University, Hamilton, Ontario, Canada; John Wiley & Sons, Inc. 2001. P. 202.