УДК: 535.621

Равномерность толщины пленок, осажденных на вращающиеся подложки

Котликов Е.Н., Иванов В.А., Прокашев В.Н., Тропин А.Н.

Полный текст на elibrary.ru

Публикация в Journal of Optical Technology

Ссылка для цитирования:

Котликов Е.Н., Иванов В.А., Прокашев В.Н., Тропин А.Н. Равномерность толщины пленок, осажденных на вращающиеся подложки // Оптический журнал. 2009. Т. 76. № 2. С. 58–62.

Kotlikov E.N., Ivanov V.A., Prokashev V.N., Tropin A.N. Thickness uniformity of films deposited on rotating substrates [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2009. V. 76. № 2. P. 58–62.

Ссылка на англоязычную версию:

E. N. Kotlikov, V. N. Prokashev, V. A. Ivanov, and A. N. Tropin, "Thickness uniformity of films deposited on rotating substrates," Journal of Optical Technology. 76 (2), 100-103 (2009). https://doi.org/10.1364/JOT.76.000100

Аннотация:

При промышленном изготовлении многослойныгх оптических покрытий существенное значение имеет равномерность нанесения оптических пленок на большие по размеру (до 200 мм) детали или кассеты с большим количеством подложек. В настоящей статье рассмотрена зависимость распределения толщины осажденной пленки по радиусу подложки большого размера от геометрических параметров планетарного механизма вращения подложек. Показано, что при некотором соотношении этих параметров неравномерность по толщине нанесенной пленки может не превышать 0,05% на всей поверхности подложки.

Коды OCIS: 140.3410

Список источников:

1. Холлэнд Л. Нанесение тонких пленок в вакууме. Пер. с англ. М.: Госэнергоиздат, 1962. 608 с.

2. Берндт К.Г. Методы контроля и измерения толщины пленок и способы получения пленок, однородных по толщине // Физика тонких пленок / Пер. с англ. Под. ред. Сандомирского В.Б. и Ждана А.Г. М.: Мир, Т. 3. 1972. С. 7-57.

3. Behrndt K. Thikness Unifirmity on Rotating Substrates // Trans. 100th Nat. Vac. Symp. 1963. Р. 379-384.

4. Большанин А.Ф., Жиглинский А.Г., Парчевский С.Г., Путилин Э.С. Формирование пленок постоянной толщины на осесимметричной подложке // ОМП. 1978. № 3. С. 39-42.

5. Бубис И.Я., ВейденбахВ.А., Духопел И.И., Зубаков В.Г., Качкин С.С., Кузнецов С.М., Лисицын Ю.В., Окатов М.А., Петровский Г.Т., Придатко Г.Д., Сергеев Л.В., Смирнов В.И., Суйковская Н.В., Торбин И.Д., Чунин Б.А. Справочник технолога-оптика / Под общ. ред. Кузнецова С.М. и Окатова М.А. Л.: Машиностороение, 1983. 414 с.

6. Жиглинский А.Г., Путилин Э.С. Оптимальные условия формирования однородных тонких пленок // ОМП. 1971. № 9. С.46-49.

7. Чжон Суп Ким, Путилин Э.С. Формирование толщины слоев вакуумным испарением // Оптический журнал. 1998. Т. 65. № 10. С. 108-112.