Оптический журнал. 2013. Т. 80. № 5.

Физическая оптика

Ващенко Е.В., Гладских И.А., Пржибельский С.Г., Хромов В.В., Вартанян Т.А.

Проводимость и фотопроводимость гранулированной пленки серебра на сапфировой подложке

Штумпф С.А., Козлов С.А., Королев А.А.

Динамика сильного поля светового импульса из малого числа колебаний в условиях возбуждения плазмы в диэлектрической среде

Расчёт, проектирование и производство оптических систем и их элементов

Бахолдин А.В., Васильев В.Н., Гримм В.А., Романова Г.Э., Смирнов С.А.

Оптические устройства виртуальных дисплеев

Бахолдин А.В., Васильев В.Н., Гримм В.А., Романова Г.Э., Смирнов С.А.

Использование призменных элементов для построения плоских волноводных экранов

Баёва Ю.В., Лаповок Е.В., Ханков С.И.

Аналитическая методика расчета тепловых потоков в околоземном пространстве, формирующих тепловой режим космических телескопов

Гуревич Э.С., Точицкий Я.И., Цуран В.И.

Оптическое приборостроение для микроэлектроники

Евтихиев Н.Н., Краснов В.В., Стариков С.Н.

Метод генерации амплитудных масок с постоянными спектрами мощности и их использование для измерения двумерных модуляционных передаточных функций оптических систем

Голография

Евтихиев Н.Н., Стариков С.Н., Черёмхин П.А.

Оценка влияния динамического диапазона и шумов регистрирующих камер на качество цифровых голограмм

Оптическое приборостроение и метрология

Демидов В.В., Дукельский К.В., Тер-Нерсесянц Е.В., Шевандин В.С.

Исследование одномодового режима работы микроструктурированных световодов с каналами вытекания излучения

Павлов Н.И., Прилипко А.Я.

Быстрый обзор круговой зоны инфракрасной сканирующей системой с матричным фотоприемным устройством

Вишняков Г.Н., Левин Г.Г., Минаев В.Л., Цельмина И.Ю.

Интерферометр фазового сдвига для контроля плоских и сферических оптических деталей

Оптическое материаловедение и технологии

Арбузов В.И., Фёдоров Ю.К., Крамарев С.И., Шашкин А.В.

Влияние технологических факторов на предельные характеристики неодимовых фосфатных стекол для крупногабаритных дисковых и стержневых активных элементов

Родин С.А., Балабанов С.С., Гаврищук Е.М., Еремейкин О.Н.

Использование Tm:YLF лазера для определения коэффициента диффузии хрома в ZnSe

Tao Qing, Luo F., Zhang Jinxing, Mo Bingcheng, Zhong Rui, Miao Dandan, Pan Xiaoxing, Liang Qianliang

Analysis of fabrication tolerance based on uneven thickness of Su8-photo-resist